IPC CH-65B CHINESE.pdf - 第174页

1 1.5.2.3 ⼲燥 段 干燥段 的 控 制相对 简 单。 最 有 效 的 干燥机是 一 种高 速 的 热空 气 干燥 舱 。 烘 干 的一 个关 键 点是 在合适的 角 度 下 引导干燥段 的 空 气 刀将 水 从 零 件和组件的表面 推 出,而不 是 让 水 蒸 发。 为了提 高 效率 , 重 要的 是 任何 机器 的 干燥段 的 尺寸 与其 它 部 分 的 流 量 保 持一 致 。 1 1.6 环境控制和注 意 事 项 1 1…

100%1 / 215
些比重近1.00半水基清洗密度助焊剂密度接,不能使密度测行监控
11.5.1.1.2 折射系数 半水基清洗系统可通折射系数行控制,其密度测
折射系数单,可过使价的便成。
11.5.1.1.3 离⼦电 些厂明,子电性()可用于监测水溶性(II半水基
比重检测不能使用(这些量的灵敏。然而,并所有的这种
测方法此,使者应使用清洗方法获取数据
11.5.2 冲洗前面所示,程可分段考虑
11.5.2.1 ⾮⽔溶性(I型)清洗剂冲洗果采乳液/倾析要一点是乳液段中清
果乳度保
可能出的半水基清洗
比重监测乳的一个有。可构造如图11-6所示的表。比重量可达
到相的准确度表会半水性材料不
半水基清洗剂形乳液乳液分离氢层果乳液/倾析系统是特定半水
性清洗推荐的工下运乳液将稳
在小之几的范围,制。
乳液分离可通过使设计的倾析器行缩倾析器被充满材料,可以加
下的乳液
半水基清洗分离们可倾析器或者果半水基清洗
助焊剂残留物高浓使用。
11.5.2.2 ⽔溶性(
II型)清洗剂冲洗 出的中的半水基清洗化学需氧
量(COD行监测。用系数COD,可以将COD系数百万
中的有机物。对半水基清洗系数范围为2.0~3.0COD2500
/系数是2.5,实上含有1000PPM的有
机物
0.94
0.92
0.9
0.88
0.86
0.84
0.82
0 1020304050
25ºC下的比重
半水基清洗中松
IPC-65b-11-6-cn
11-6 ⽐重与助焊剂量的线
20117 IPC-CH-65B-C
159
Copyright Association Connecting Electronics Industries
Provided by IHS under license with IPC
Not for Resale, 11/27/2015 19:13:55 MST
No reproduction or networking permitted without license from IHS
--`,`,,,,`,`,,,`,,,`,`,`,`,,,```-`-`,,`,,`,`,,`---
11.5.2.3 ⼲燥 干燥段制相对单。干燥机是种高热空干燥的一
个关点是在合适的引导干燥段刀将件和组件的表面出,而不发。
为了提效率要的任何机器干燥段尺寸与其持一
11.6 环境控制和注
11.6.1 半水基清洗排放有:
助焊剂和其污染半水基清洗
含有半水基清洗
半水基清洗汽。
污染的及在使程中的
发性有化合排放(和可能有的有害空气污染
流必须根的章程处理
政府机构已对运送废排放气中的排入或者系统,并
排入湖泊和海法规章。在国,清洁法案清洁水法资源保护
收法案RCRA等详细规定了用和制半水基清洗产品应任。
规定可能适用。用任何半水基清洗新清洗工时,细考虑这些
法规。用在实任何新的清洗工(包半水清洗)
联系所有合适的气、
半水基清洗为可生物降解物质,不会制公水处理POTWs有的
材料安全数据表(MSDS或者类的文件包含其产品具体信息。水法规异很大,
使者应POTW
和国标准定义泄漏量,有关局报告MSDS包含容及清
泄漏的合适方法
的有关信息。
11.6.2 ⽤的半⽔基清洗剂 取决所用清洗半水基清洗类型两种用有机半水基
清洗的来源。是半水基清洗情况下,半水基清洗废酸
的新清洗半水基清洗中的助焊剂残留物持在一个平值上。果半水基
半水基清洗的污
可能会使整半水性清洗
定期。第二,到目,所半水性清洗剂最可能的来源倾析器中的有
或者是水收过程中的缩物确切处理方取决燃点于半水基清洗中的
害物质数量和含量。(在国,这些限制RCRA法规规定;在其,一由危物处
法律做规定助焊剂残留物可能包含量的和其重金属物质果使用了
助焊剂
此。I型半水基清洗剂是中性pH值,们不会通化学应去除重金属。一半水基清洗
目来半水性清洗便于正确或者收再利用。这种可能有
限制,或者原产以外的国可能这些
溶于水半水基清洗大量溶剂倾析器或者
中的分离出来
不可的。洗槽内的材料的处理方与不溶于水的材料的处理方的。
所有清消除组件中的锡珠飞溅和其。清洗设备应有适
以消除清洗中的这些固金属
11.6.3 冲洗⽔ 半水基清洗程中势之是冲处理方法两种类型
半水基清洗水溶性和非水溶
性。水溶性清洗剂带来一个挑战,无法单的机械分离方法
IPC-CH-65B-C 20117
160
Copyright Association Connecting Electronics Industries
Provided by IHS under license with IPC
Not for Resale, 11/27/2015 19:13:55 MST
No reproduction or networking permitted without license from IHS
--`,`,,,,`,`,,,`,,,`,`,`,`,,,```-`-`,,`,,`,`,,`---
分离水溶半水基清洗(任何非水溶性的半水基清洗中的水溶性成
机械或者式将分离
非水半水基清洗剂过程的表明,大部材料在一个液倾析器系统
时,半水基清洗相对小的。出的半水基清洗用上一节所述的方法处理
出的
程中法规水处理。所有半水
清洗或者溶中时,生物降解的,不制通在公水处理发现的
。用,一一的排放标准,标准对金属和各领域的其有不
的限制。
11.6.3.1 ⾮⽔溶性(I型)半⽔基清洗系统中的冲洗⽔ 子,在国,附带倾析器
后续的污施系统排入水处理排入
水处理点应水处理管理局或者国运机构核实。相水溶
水基产品监管机构更普遍地非水溶半水基材料材料,通
FOG)区。关问题
更多信息环境控制的部9章节)
11.6.3.2 ⽔溶性(II型)半⽔基清洗系统中的冲洗⽔ 水溶半水基清洗系统中的含有更多
的有机物。有几种方法处理这些放式排放或者水处理
限制或者,可用将废中。当废流被便残留下的大部
分或者所有的水溶性清洗和污染
选择处理。此,开放式环过程可能会
限制排放发性有化合VOCs)和有污染HAPs
11.6.3.2.1 排放⾄下的冲洗⽔ 排放是最简单的处理过程。然而,需考虑环境
监管方面的问题。各 确定它们的下排放POTW或者未连POTW
的下系统或者
制(UIC。在国,环境保护规定
源的液体或者水应至地UICUIC的工施应国的UIC局联系
定是否符合要求。在其的用法规遵循
这些系统出的,大部是带水溶性清洗及清部件产生量污染
水溶性化学成分是生物降解的,pH值为中性或者
性。通常流可证允许水溶性清洗
流排中清洗的含量可废酸含量行估并可验证其含量。
允许排放到下或者限制允许排放量。在这些必须考虑它处理方
11.6.3.2.2 排放POTW的冲洗⽔ 水溶半水基清洗系统中的不可
排放POTW。在许多水溶
物质监管但允许在支付小后排POTW
11.6.3.2.3 的物体排 当蒸于集中污时,用可能会定期将蒸
或者他们连续操作定期将蒸物体优点是清洗
更多中,VOC排放环境中。其点是置更多
。此
速度,并使器使的清洗速度点是使化学
的清洗导致更多使的清洗过带液留阶段
水过程中使用了碳/离耗尽速度阶段
使用的清洗必须
11.6.3.2.4 定状态下的,可在不将蒸下运
长一。来化学或者最初冲洗区的以连续浓
定状态下的优点是它最大限地减少量,并使和清洗
的时长。其点是排放环境中的
VOC较高。此项过程会加蒸速度
20117 IPC-CH-65B-C
161
Copyright Association Connecting Electronics Industries
Provided by IHS under license with IPC
Not for Resale, 11/27/2015 19:13:55 MST
No reproduction or networking permitted without license from IHS
--`,`,,,,`,`,,,`,,,`,`,`,`,,,```-`-`,,`,,`,`,,`---