IPC CH-65B CHINESE.pdf - 第183页

• 铝 ( ⽩ ⾊⾦属 ) 含 铜 2000 系 列和含 锌 7000 系 列的 敏 感 铝 合 金 因 受 清洗 过 程的不 利 影 响 , 铝 会发 生 变 色 。 碱 性清洗 剂 可能与长 期 暴露 的表面 铝 合 金 发 生 反 应 。 较 长的 接 触 会 产生 一个 白色 的、参 差 不 齐 、明 亮 的 橙 色 和 沉 闷 灰 色 的 外观 ,影 响 洗 涤 温 度 和 接 触 时 间 。 • 铜 / 黄 铜 ( 黄 ⾊⾦…

100%1 / 215
12.5.3 功能性添加剂 现代清洗消除电路组装程中的助焊剂残留物多种能。此能可
在开发程中通在清洗添加材料来实现的。使这些添加以降低表面张力,提
润湿性,止金属化,止起泡化清洗使用的材料。添加添加能为清洗
的性能,在许多面,成为区产品
12.5.4 表⾯ 沿电路组件
组件提了表面密度。组件的小使部件间距小和
或者托高。为了清洗渗透这些高密度,设计出改善润湿渗透。通过液体表面
面的吸收,表面 降低的表面张力,表性和表面良好
的表面张力降低使得小间距间渗透以改善
12.5.5 粘度 粘度是体阻力的量。对于密集组件下渗透动,清洁成粘度
减少在组件穿透力。
粘度、表面张力和密度的关润湿指明:
密度× 1000 / [表面张力×粘度]=润湿指,用单的13示。下表明了纯净
2-2-/水75/25/体积)使的关2-的值可
标准手册得,而合值分析实验室确定的。清洗代表6用单MEA剂溶
12-1 示了一个设计的清洗改善润湿性及在清洗低托高组件的助作用。
12.5.6 电路组件的合组件组成的。电子设计的料合
有不用的不设计的。的合及其
料合
,组件用一个广的电镀金属和合的。添加以添加水基清洗中,或者控
金属表面的速度
物质可能与不类型金属以速度,其程定于源的性、清洁槽碱
平、洗。为了减少金属或者腐蚀速率腐蚀金属表面上
止碱与合蚀剂的适用性取决许多因素必须反
的材料体系水基清洗的本性、设计和操作
水基清洗使用的物质可能与电路组装使用的一防护涂料起反较低
中性pH值)有新工技术,可能会改善这种。清洗这些的相用会起外
上的化,显著部件金属
特殊问题
锡铅焊料 的清洗,在情况下可焊点组织,会使槽里碱平、
间变。影表现为焊点外观、发、发表。
⽆铅焊料 物质的影情况下,可能会
外观
12-1 清洗剂
清洗剂
25° C的液
g/cc
体粘度
厘泊
表⾯
dyne/cm 润湿
工程用的水基清洗 0.998 1.08 29.7 31
2- 0.785 2.4 21.7 15
0.997 1.00 72.8 14
2-/水75/25 0.856 26.8 3.44 9
点:高润湿指=润湿性。表表明了有相或者接润湿性能的的洗洗值,达到佳清残留物的洗
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⾊⾦属 2000列和含7000列的清洗程的不会发
性清洗可能与长暴露的表面长的产生一个白色的、参
、明外观,影
/⾊⾦属 在任何
金属,包青铜或者或者在清
程中金属或者化。的表面的表面有更加
化。一些碱性清洗容易色金属失
过引Pourbaix(电位/pH,电子元器暴露于水基清洗溶液中的风险是的。电
/pH特定的合可能的
定状态出的效应用线性表示。Pourbaix(电位/
pH鉴别了所机体力、腐蚀性及化。
12.5.7 消泡在一件中消泡减少或者阻碍泡沫成。能量清洗
速度使清洗。对泡沫的部面的影响是,在个动程中,清洗有一
组织小的气成。面,一化工
容易泡沫泡沫可能会导致显著的工
艺问题化、平的件下发、减少力、及清洁不泡沫可能导致
效率下,导致助焊剂残留物和清洗剂残留
12.6 ⽔清洗产品设计 锡后水溶液清洗,洗全是水或者水无机原料。
IPC定义当添加剂应于水基清洗时,至少50%是水,在大情况下,
容量的
80去焊剂的主要成中的水作去焊剂的材料,残留物是
电化学的主要因素
添加不能清洗助焊剂残留物身往往良好水溶性)
助焊剂,在非极性、非离或者密间距添加可能是需要的。使水溶
助焊剂
泡沫一个相当普问题这些类型助焊剂含有量的表面这种情况
剂去加以制。
涤介质,仅仅化学添加DI去离子) 于冲洗电子线路板。
是去残留不会有残留中的任何添加剂或者反这一目的。据冲
硬度CaSO
4
-是“干燥可能会在电路板上残留物此,
去离水是介质
12.6.1 清洗剂与污的工程的清洗消除清洗和有助焊剂残留物是非
常重要的。电路设计和装中的各助焊剂类型产生具有不材料性的残留量。助焊剂
残留物中含有大量的子,要清洗污的性匹配,相今随大范围的
助焊剂包的
使用,性清洗设计有不性,吸附助焊剂残留物,目前
组装使用的助焊剂残留物有一清洗剂是最的。大现代的清洗消除
焊剂残留物
12.6.2 去离⼦⽔(DI⽔) 不含任何添加用来水溶助焊剂子污染物造
残留这些助焊剂设计为单清洗。然而,所有残留物是极要的。水溶
助焊剂
的本性可能导致腐蚀这些残留物被完全去必须尽
力,确保小的空间部件下方残留物的相对较高的表面张力,可密集
间距或者低托高的挑战。对操作添加使件的清洁达到要求的平。成
取决于器件本的性、设备效率焊接与清洗小化。洗50° C~65° C[122°
F~150° F]范围
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12.6.3 中性⽔溶液 板清洗工艺使用的pH值中性的化学试剂已存年并继续去焊剂
使用的pH值中性的化学试剂pH7.0±0.50进以力提材料的兼容性和绿材料的性能。
于它们的清洗效果性清洗时,在使用相的工件及度水平(5-15%
下,这些产品是污相匹配的清洗们的清洁制不的、在性清洗
酸碱反pH
中性的清洗化学更依合能力和能力成清洗。对锡膏助焊剂的清洗
果需的清洗评估确定。在成所的清洁任时,的各可用的清洗技术合了
多种技术,减少大量的包的求。
pH7溶液性,pH值大7溶液性的。考虑或者
的清洗pH值时,下区
pH中性可为感材料和金属更广的工窗口的关注已过去产品
到证明,并可能通消除或者减少料来
pH中性 改善废管理系统消除中和化。用的pH中性清洗
这种清洗可能含有复杂的重金属9章污排放金属的限制。鼓励检查
们的法规pH值中性的
冲系统产品技术,为在处理期间污染可能影清洗pH
值。
去焊剂介质的成pH中性清洗代表了组装清洗发的一个不方法。关其对
无铅清洗和松助焊剂残留物、清洗寿命程可面的有
12.6.4 皂化清洗剂 性清洗剂已使用了年。化清洁效去RMAOA污而
有的技术
化清洁们表现出常短寿命pH值和的对焊接
这些皂化清洗限性,导致2090年代初引半水基清洗代替CFC。然
而,平的制程往往要与围半水基清洗设计的联系在一。现代的水基产品响应
单、容易制的要求而开发设计。
现代水基材料本物质。然而,在这些新材料决那
化清洁有个主要关问题
•更组合清洁寿命
和的活或者制,
清洗焊接发明前,水基性材料进入积的RMA污。们的
pH值范围通9或者10,在的技术平台在11或者12的范围。在世许多这些现代
水基清洗剂做
创新和改进
这些创新趋向于集中在个关问题
长清洗寿命
及其组成材料有的兼容性。
料和助焊剂技术的不新表现良好的性能:清洗、无铅
•降使用成本。
这些碱性的技术平台证明在许多不仅用的劲。
般情况下清洗于应用的程使用的工应水平。
化清洗剂联
合了性、性和添加,能有清洗助焊剂残留物。在这些情况取决性清
表现的平,性源本可能机或者无机物质。有多种方法可用于生化的水基型
子组装清洗。为了清为三讨论
⽔基反应型:产品含有:有用的助焊剂残留物
改善脏污清
化的水基清洗处是降低清洗及与松
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