赫立麟翔系列在线型自动光学检测仪使用手册-Ver3.0-C3069 - 第27页
上海赫立电子 科技有限公司 在线型自动光 学检测仪使用 手册 第 26 页 共 64 页 取) 、 侧 立(亮 度 投射 最 小跨度 ) 、立 碑 (亮 度抽 取) 、反 贴 (亮 度平 均值 ) 、 通 用( 全板 匹配 剔 除) 、通 用( 片式 元 件定位 ) 、通 用( 窗 口生成 ) 、缺 锡( 亮 度抽取 ) 、虚 焊( 亮度 抽取 ) 、漏 铜( 颜色 抽取 ) 、错 件(亮度抽取 ) 、偏移( 亮度极差 / 亮度投射最小…

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步骤 4):在左上角“元件列表”板块内,鼠标左键单击选择其中任何一个 Fiducial Mark,“图像”板块
将自动切换至相应的位置;在“检测窗口树”板块内分步添加两个检测窗口,鼠标左键单击“新
建检测窗口”按钮,检测窗口树内出现第一个检测窗口,在左下方“属性”板块“报错类型”
列表选择“通用”,“算法”列表选择“Mark 定位”,并同时进行适当的“图像源”选择,以及
适当的算法参数设置,注意:一定要在“图像”板块将该检
测窗口大小框拖拽拉伸至合适的搜索范围,也一定要在下级
放置窗口并且算法选择为“相对偏移值”;
鼠标左键再次单击“新建检测窗口”按钮,检测窗口树内出
现第二个检测窗口,鼠标左键单击“降级”按钮,第二个窗
口 变 为 第 一 个 窗 口
的子窗口,在左下方
“属性”板块“报错
类型”列表选择“通
用”,“算法”列表选
择“相对偏移值”。
第 一 个 检 测 窗 口 用
于 MARK 点搜 索 定
位,第二个检测窗口
用于让 MARK 算法起作用,若无此窗口,MARK 算法将无任何作用。
注意:当一个窗口“降级”为前一窗口(即父窗口)的子窗口时,则该窗口的中心位置将自
动“继承”前一窗口(即父窗口)的中心位置。因此,通常父窗口都可以起到“自动追踪定
位”的作用,而子窗口则自动继承或应用其父窗口的位置跟踪偏移量数据。
步骤 5):完成主 Fiducial Mark 点的检测库制作后,切记一定要点击“赫立 AOI 系统软件”主菜单“编
辑”菜单下的“应用 MARK”选项,以便将校正数据应用于待测 PCB 上的所有元件。
有些情况下,由于待测 PCB 尺寸较大,且较易弯曲变形,而且拼板数目较多,为了让元件窗口位
置(CAD/NC 数据导入获得的窗口)实时调整到与每块待测 PCB 的实际图像(采集获取的 PCB 图像)
更精确地匹配,非常有必要进行子 Fiducial Mark 检测库的制作。
子 Fiducial Mark 的制作方法和步骤,和主 Fiducial Mark 的制作方法和步骤一样,请参看以上章节。
注意:无需对子 Fiducial Mark 右下方元件“属性”板块“拼板”项进行特殊设置,让其保持与其
自身所在的拼板编号保持一致即可。子 Fiducial Mark 并不一定要成对出现,单个和成对出现,系统都
能正常工作。(当然,成对出现,校正效果更理想。)
2-3-5. 元件检测库的制作方法和步骤
本小节主要讲述如何编辑元件的检测库,这是 AOI 系统里面最为重要的部分。检测库制作的好坏与
否将直接影响到整个检测程序的检出能力及误报状况。
以 R0402 检测库的制作为例,通常需要新建如下检测窗口(和相对应使用的算法):缺件(颜色抽

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取)、侧立(亮度投射最小跨度)、立碑(亮度抽取)、反贴(亮度平均值)、通用(全板匹配剔除)、通
用(片式元件定位)、通用(窗口生成)、缺锡(亮度抽取)、虚焊(亮度抽取)、漏铜(颜色抽取)、错
件(亮度抽取)、偏移(亮度极差/亮度投射最小跨度)等。
有些情况下,为了更好地确保检测出某种缺陷,可同时添加多个以该种缺陷名称命名的检测窗口,
并配以使用多种不同的检测算法。通过合理设置算法参数调节这些窗口之间的兼容和互补,即可以起到
保证检出率的效果,同时也可以起到降低误报率的效果。
以 R0402 为例,现在讲解具体的检测库制作方法和步骤:
步骤 1):鼠标左键双击“赫立 AOI 系统软件”右侧元件目录树内需要使用 R0402 检测库的元件所在目
录(例如,1005R 目录),“赫立 AOI 系统软件”将切换成检测库编辑界面,在“检测窗口树”
板块点击右侧的“检测库新建/选择/链接”按钮 ,在随即出现的列表的上方点击“新建检测
库”按钮 ,在弹出的“新建检测库”对话框内输入期望的检测库的名称,例如:R0402。
(参见下图)
步骤 2):在左上角“元件列表”板块内,鼠标左键单击选择其中任何一个元件(例如,R101),“图像”
板块将自动切换至相应的位置;鼠标左键单击“新建检测窗口”按钮,检测窗口树内出现第一
个检测窗口,在左下方“属性”板块“报错类型”列表选择“缺件”,“算法”列表选择“颜色
抽取 HSV”,并同时进行适当的“图像源”选择,以及适当的算法参数设置,注意:一定要在
“图像”板块将该检测窗口大小框拖拽拉伸至合适的大小。
依次类推,分别完成侧立(亮度投射最小跨度)、立碑(亮度抽取)、反贴(亮度平均值)、通
用(全板匹配剔除)、通用(片式元件定位)、通用(窗口生
成)缺锡(亮度抽取)、虚焊(亮度抽取)、漏铜(颜色抽取)、
错件(亮度抽取)、偏移(亮度极差/亮度投射最小跨度)等
检测窗口的新建和算法参数设
置,以及“图像源”选择和窗
口大小的拖拽等。

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注意:关于“窗口生成”检测算法,对于一些具有几何对称性的元件,例如片式电阻、电容、
电感、IC(包含单边引脚连接器、双边引脚 SOP、四边引脚 QFP)等元件,为了实现快速制
作对称性的检测窗口、减少检测窗口的平铺数量、快速调试对称性检测窗口算法参数等目的,
请尽量使用“窗口生成”检测算法。
2-3-6. Bad Mark(拼板坏板标识)检测库的制作方法、步骤和工作原理
Bad Mark(拼板坏板标识)检测库主要用于自动屏蔽检测受检电路板任一拼板坏板(所谓拼板坏板
是指因板材自身来料不良而造成个别拼板报废,该报废拼板往往不贴装任何元件)。
对于一个检测程序来说,电路板有几块拼版就会有几个 Bad Mark。当 Bad Mark 检测窗口报错时,
则视其所在拼板为坏板,并且自动屏蔽检测该拼板;当 Bad Mark 检测窗口不报错时,则按正常状况检
测其所在拼板。注意:Bad Mark 拼板号必须与所在的拼板对应。
步骤 1):鼠标左键单击“赫立 AOI 系统软件”右侧“导航”板块内的元
件目录树内的 Bad Mark 点所在目录,在随即出现的右下方目录
属性“类型”下拉列表内选择“Bad Mark”;(参见右图)
步骤 2):鼠标左键双击“赫立 AOI 系统软件”右侧“导航”板块内的元件目录树内的 Bad Mark 点所在
目录,“赫立 AOI 系统软件”将切换成检测库编辑界面,在“检测窗口树”板块点击右侧的“检测库新
建/选择/链接”按钮 ,在随即出现的列表的上方点击“新建检测库”按钮 ,在弹出的“新
建检测库”对话框内输入 BADMARK 点检测库的名称,例如:BADMARK。(参见下图)
步骤 3):在左上角“元件列表”板块内,鼠标左键单击选择其中任何一个元件(例
如,BADMARK_0),“图像”板块将自动切换至相应的位置;鼠标左键
单击“新建检测窗口”按钮,检测窗口树内出现第一个检测窗口,在左
下方“属性”板块“报错类型”列表选择“通
用”,“算法”列表选择“颜