IPC CH-65B CHINESE.pdf - 第182页

12.5.3 功能 性添加剂 现代清洗 剂 在 消除 电路组装 过 程中的 助焊剂残留物 执 行 多种 功 能。此 功 能可 能 是 在开发 过 程中通 过 在清洗 剂 中 添加 各 种 材料来实现的。 使 用 这些添加 剂 以降低 表面张力,提 高 润湿 性, 防 止金属 合 金 氧 化, 防 止起泡 及 乳 化清洗 剂 配 方 中 使 用的材料。 添加 剂 的 添加 能为清洗 剂 带 来 非 常 有 益 的性能,在 许多 方 面, …

100%1 / 215
意识度溶性。上所述,清洗的工度是高脏污的,然而,在
达到度点溶这种度系数解释了为什么许多配方最
60° C[140° F]设计在为较高焊接无铅焊剂产生清洗的
残留物设计清洗时,必须记“今天的清洗方”
可能注意到,在运一个新的化学时,初期清洗效率可能会出现提
的影响是在的污,污可能影响溶力,实上提溶”
时,监控清洗的,以避免过平。
12.5.2 活化剂(反应物) 水基清洗,通常被剂”
性源与助焊剂残留
应规定水基清洗剂体系的清洗助焊剂溶负载量。
前所述,仅仅对松和合成一个良好的清洗助于助焊剂
。来协作性能的水基清洗的工程价值,而不会材料的兼容性
性本能与金属层压板、涂料、及一起反。为了
这些
,其材料可以添加到清洗化和腐蚀保护
助于形成一个的洗涤液,并寿命助焊剂残留是性的。洗涤液添加
助焊剂使性范围。可能会导致非挥发性助焊剂污在程中洗出,并
积到件表面。管理化学时,酸反冲水基清洗溶液助焊剂到清
中,这种
性可化学pH长洗寿命
并在洗和干燥处理步骤助焊剂体再积在表面上。
✺᧕㓴㻵ਾⲴ␵⍇ᐕ㢪
✺᧕ਾⲴ⭥ᆀ㓴Ԧ
䙊ᆄ␵⍇
607␵⍇
ঠࡧ䭉䈟␵⍇
᡻ᐕ␵⍇
✺᧕ᢈⴈ
Ր䘱ᑖ᡻ᤷ␵⍇
э㖁઼⁑
ᶯ␵⍇
ᮧᖒ⎲㾶
ࡽ㋮㓶␵⍇
IPC-65b-12-1-cn
12-1 焊接组装的清洗⼯艺
20117 IPC-CH-65B-C
167
Copyright Association Connecting Electronics Industries
Provided by IHS under license with IPC
Not for Resale, 11/27/2015 19:13:55 MST
No reproduction or networking permitted without license from IHS
--`,`,,,,`,`,,,`,,,`,`,`,`,,,```-`-`,,`,,`,`,,`---
12.5.3 功能性添加剂 现代清洗消除电路组装程中的助焊剂残留物多种能。此能可
在开发程中通在清洗添加材料来实现的。使这些添加以降低表面张力,提
润湿性,止金属化,止起泡化清洗使用的材料。添加添加能为清洗
的性能,在许多面,成为区产品
12.5.4 表⾯ 沿电路组件
组件提了表面密度。组件的小使部件间距小和
或者托高。为了清洗渗透这些高密度,设计出改善润湿渗透。通过液体表面
面的吸收,表面 降低的表面张力,表性和表面良好
的表面张力降低使得小间距间渗透以改善
12.5.5 粘度 粘度是体阻力的量。对于密集组件下渗透动,清洁成粘度
减少在组件穿透力。
粘度、表面张力和密度的关润湿指明:
密度× 1000 / [表面张力×粘度]=润湿指,用单的13示。下表明了纯净
2-2-/水75/25/体积)使的关2-的值可
标准手册得,而合值分析实验室确定的。清洗代表6用单MEA剂溶
12-1 示了一个设计的清洗改善润湿性及在清洗低托高组件的助作用。
12.5.6 电路组件的合组件组成的。电子设计的料合
有不用的不设计的。的合及其
料合
,组件用一个广的电镀金属和合的。添加以添加水基清洗中,或者控
金属表面的速度
物质可能与不类型金属以速度,其程定于源的性、清洁槽碱
平、洗。为了减少金属或者腐蚀速率腐蚀金属表面上
止碱与合蚀剂的适用性取决许多因素必须反
的材料体系水基清洗的本性、设计和操作
水基清洗使用的物质可能与电路组装使用的一防护涂料起反较低
中性pH值)有新工技术,可能会改善这种。清洗这些的相用会起外
上的化,显著部件金属
特殊问题
锡铅焊料 的清洗,在情况下可焊点组织,会使槽里碱平、
间变。影表现为焊点外观、发、发表。
⽆铅焊料 物质的影情况下,可能会
外观
12-1 清洗剂
清洗剂
25° C的液
g/cc
体粘度
厘泊
表⾯
dyne/cm 润湿
工程用的水基清洗 0.998 1.08 29.7 31
2- 0.785 2.4 21.7 15
0.997 1.00 72.8 14
2-/水75/25 0.856 26.8 3.44 9
点:高润湿指=润湿性。表表明了有相或者接润湿性能的的洗洗值,达到佳清残留物的洗
IPC-CH-65B-C 20117
168
Copyright Association Connecting Electronics Industries
Provided by IHS under license with IPC
Not for Resale, 11/27/2015 19:13:55 MST
No reproduction or networking permitted without license from IHS
--`,`,,,,`,`,,,`,,,`,`,`,`,,,```-`-`,,`,,`,`,,`---
⾊⾦属 2000列和含7000列的清洗程的不会发
性清洗可能与长暴露的表面长的产生一个白色的、参
、明外观,影
/⾊⾦属 在任何
金属,包青铜或者或者在清
程中金属或者化。的表面的表面有更加
化。一些碱性清洗容易色金属失
过引Pourbaix(电位/pH,电子元器暴露于水基清洗溶液中的风险是的。电
/pH特定的合可能的
定状态出的效应用线性表示。Pourbaix(电位/
pH鉴别了所机体力、腐蚀性及化。
12.5.7 消泡在一件中消泡减少或者阻碍泡沫成。能量清洗
速度使清洗。对泡沫的部面的影响是,在个动程中,清洗有一
组织小的气成。面,一化工
容易泡沫泡沫可能会导致显著的工
艺问题化、平的件下发、减少力、及清洁不泡沫可能导致
效率下,导致助焊剂残留物和清洗剂残留
12.6 ⽔清洗产品设计 锡后水溶液清洗,洗全是水或者水无机原料。
IPC定义当添加剂应于水基清洗时,至少50%是水,在大情况下,
容量的
80去焊剂的主要成中的水作去焊剂的材料,残留物是
电化学的主要因素
添加不能清洗助焊剂残留物身往往良好水溶性)
助焊剂,在非极性、非离或者密间距添加可能是需要的。使水溶
助焊剂
泡沫一个相当普问题这些类型助焊剂含有量的表面这种情况
剂去加以制。
涤介质,仅仅化学添加DI去离子) 于冲洗电子线路板。
是去残留不会有残留中的任何添加剂或者反这一目的。据冲
硬度CaSO
4
-是“干燥可能会在电路板上残留物此,
去离水是介质
12.6.1 清洗剂与污的工程的清洗消除清洗和有助焊剂残留物是非
常重要的。电路设计和装中的各助焊剂类型产生具有不材料性的残留量。助焊剂
残留物中含有大量的子,要清洗污的性匹配,相今随大范围的
助焊剂包的
使用,性清洗设计有不性,吸附助焊剂残留物,目前
组装使用的助焊剂残留物有一清洗剂是最的。大现代的清洗消除
焊剂残留物
12.6.2 去离⼦⽔(DI⽔) 不含任何添加用来水溶助焊剂子污染物造
残留这些助焊剂设计为单清洗。然而,所有残留物是极要的。水溶
助焊剂
的本性可能导致腐蚀这些残留物被完全去必须尽
力,确保小的空间部件下方残留物的相对较高的表面张力,可密集
间距或者低托高的挑战。对操作添加使件的清洁达到要求的平。成
取决于器件本的性、设备效率焊接与清洗小化。洗50° C~65° C[122°
F~150° F]范围
20117 IPC-CH-65B-C
169
Copyright Association Connecting Electronics Industries
Provided by IHS under license with IPC
Not for Resale, 11/27/2015 19:13:55 MST
No reproduction or networking permitted without license from IHS
--`,`,,,,`,`,,,`,,,`,`,`,`,,,```-`-`,,`,,`,`,,`---