IPC CH-65B CHINESE.pdf - 第185页

烈 反 应 。 高 度 皂 化的 水 性清洗 液 的平 衡 能 够潜 在的 增 加 材料的兼容性 问题 、 缩 短槽 液 寿命 及 降低许 多 新的 助焊剂 设计中 使 用的 聚 合 物 和 高 分 子 树 脂 的清洗 效 力。 • ⽔基中反应型: 产品 同 时有 溶 解 和 皂 化。中性 反 应 配 方 设计 将高 的 溶 解 力和 反 应 力 结 合 以 提 高 清洗 速度 。中性 反 应水基 清洗 液 的 好 处是 改善 了材料的…

100%1 / 215
12.6.3 中性⽔溶液 板清洗工艺使用的pH值中性的化学试剂已存年并继续去焊剂
使用的pH值中性的化学试剂pH7.0±0.50进以力提材料的兼容性和绿材料的性能。
于它们的清洗效果性清洗时,在使用相的工件及度水平(5-15%
下,这些产品是污相匹配的清洗们的清洁制不的、在性清洗
酸碱反pH
中性的清洗化学更依合能力和能力成清洗。对锡膏助焊剂的清洗
果需的清洗评估确定。在成所的清洁任时,的各可用的清洗技术合了
多种技术,减少大量的包的求。
pH7溶液性,pH值大7溶液性的。考虑或者
的清洗pH值时,下区
pH中性可为感材料和金属更广的工窗口的关注已过去产品
到证明,并可能通消除或者减少料来
pH中性 改善废管理系统消除中和化。用的pH中性清洗
这种清洗可能含有复杂的重金属9章污排放金属的限制。鼓励检查
们的法规pH值中性的
冲系统产品技术,为在处理期间污染可能影清洗pH
值。
去焊剂介质的成pH中性清洗代表了组装清洗发的一个不方法。关其对
无铅清洗和松助焊剂残留物、清洗寿命程可面的有
12.6.4 皂化清洗剂 性清洗剂已使用了年。化清洁效去RMAOA污而
有的技术
化清洁们表现出常短寿命pH值和的对焊接
这些皂化清洗限性,导致2090年代初引半水基清洗代替CFC。然
而,平的制程往往要与围半水基清洗设计的联系在一。现代的水基产品响应
单、容易制的要求而开发设计。
现代水基材料本物质。然而,在这些新材料决那
化清洁有个主要关问题
•更组合清洁寿命
和的活或者制,
清洗焊接发明前,水基性材料进入积的RMA污。们的
pH值范围通9或者10,在的技术平台在11或者12的范围。在世许多这些现代
水基清洗剂做
创新和改进
这些创新趋向于集中在个关问题
长清洗寿命
及其组成材料有的兼容性。
料和助焊剂技术的不新表现良好的性能:清洗、无铅
•降使用成本。
这些碱性的技术平台证明在许多不仅用的劲。
般情况下清洗于应用的程使用的工应水平。
化清洗剂联
合了性、性和添加,能有清洗助焊剂残留物。在这些情况取决性清
表现的平,性源本可能机或者无机物质。有多种方法可用于生化的水基型
子组装清洗。为了清为三讨论
⽔基反应型:产品含有:有用的助焊剂残留物
改善脏污清
化的水基清洗处是降低清洗及与松
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化的性清洗的平够潜在的材料的兼容性问题短槽寿命降低许
新的助焊剂设计中使用的的清洗力。
⽔基中反应型:产品时有化。中性设计将高力和清洗
速度。中性应水基清洗处是改善了材料的兼容性,寿命和提助焊剂残留物中的
的清洗
力。降低槽寿命降低无铅助焊剂使用的子量
的清洗力。
⽔基反应型:产品具力和低皂平。低反设计使用了与许多助焊剂用的
物溶溶剂,所以改善了清洗速率低反应型水基清洗处是
寿命长、材料的兼容性、对无铅助焊剂残留物的清洗效率
溶剂化能力和
的材料兼容性,水基低反应型了一的技术。
12.6.5 ⽔的有机溶剂乳液 这种清洗技术在乳液使全非机溶剂溶剂乳液
消除和其它非极性材料,水基水溶残留物
程,所用制量的有机溶剂与洗室的合,在洗槽里溶剂液很好地
“乳状液”后被喷清洁的部件上。洗环过程中,喷射溶剂/水流回
续被化。
程的机溶剂清洁与清洗所有的来。使用的有机溶
相对较高较低力,减少发性有化合排放量。量的有机溶
,通不会或者隐患
12.7 ⽔清洗剂设计⽀持定的⼯艺 清洗率定理程,静态速率残留物在清洗中的
上动态速率机械能)清洗速率静态清洗速率代表了清洗残留物
性,与清洗剂具有相污易合和清洗中,清洗
们各大不则遵循Hildebrand and Scott1950定理-
清洗污的
匹配使应机械不能清洗净脏污。
12.7.1 式清洗 生产或者焊接修,对助焊剂,可用小
清洗或者湿刷成。对操作使水或者软去离水冲洗。
达到50° C[122° F]的。免使用含有添加
清洗,
可能无法除添加
12.7.1.1 合有机溶剂可用洗清洗返修IPA/水已经被普使用在这种中。使
步骤时,与助焊剂残留物内聚能参的有机溶剂水膜成适的清洗
12.7.1.2 湿洗用于过程和维护清洗。洗,与有机溶剂合的可用于模板清
洗、回流炉清洗、清洗、机器清洗及其它维护应用。
12.7.2 板清洗
板清洗以满足高价值的表面装技术的清洗要求。板清洗一个
维度的清理过程,用清洁板(SMT印的SMT电路板、焊接前和回流锡膏
印。表12-2列出的板清洗剂产品设计。
12.7.2.1 板清洗使⽤⽔基冲洗 与有机溶剂合提了一个能性的清洗剂去板和印
刷错误的印制电路板上的未固
12.7.2.2 板清洗使⽤冲洗⽔基 和的性源和添加水基清洗
除未
化的锡膏但缺除未固化的SMT后锡膏的性能。
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12.7.2.3 板清洗去未固化的焊焊接机粘结 、有机溶剂能性添加
合的了一个能清洗以消除主要的未固化的SMT。有机溶剂
分溶于水,部的有机溶剂润湿非极和一部分助焊剂残留物溶于无添加
带溶剂助于冲要的残留物
12.7.3 ⽔基去未固化的焊和双⾯印错误 为了满足
除未固化的未固化的SMT
除回流助焊剂残留物能清洗能力的求,而心设计具备上述特点的清洗剂是
要的。
12.7.4 批清洗 批处理备使浸泡的设计。水基清洗设计成基于
的不 能的添加、设备类型、材料的兼容性及环境问题清洗组装件长的洗
,所材料兼容性是批要关的一个问题。在情况下,旁边
材料
的兼容性问题
12.7.5 超声波 水基清洗剂产品设计可用浸泡超声波清洗程。在超声波系统,在相
、相的清洗使用不的清洗力如喷气中,表现往往是非的。有清洗
备使用的功率密度评估清洗在清洗程中要的。使超声
测试清洗要,我们的目标是使用清洗达到有清洁的一性,
程中
表面。用性能和洗性特点
清洗的设计必须以这,清洗在超声波的有度附效果最优化。于最
物理、化学性、包清洗密度碍超声波于最汽在
化气平的提,有了清洗效果
12.7.5.1 浸泡喷流 水基清洗设计浸泡喷流
超声波的设计。清洗设清洗的设计。
12.7.6 式离 心力的清洗件表面。为程的一性,清洗必须
使用。的工艺产生离心力协助清洁步骤吞吐量的程可实现
平和对部件下的清洗出
12.7.7 喷淋的或者的) 设计用在和平面清洗设中的水基清洗污染
材料兼容性和环境方
面的考虑,通要含有能性添加喷淋影及体作用力
性,清洗工长的洗。材料兼容性一个要的水基清洗的设计
考虑。此能性添加用来消除泡沫
12.7.7.1 在线式喷淋 为在线喷淋所设计的水基清洗剂非常多化,工程设计目标
计对广类型残留助焊剂
系统功密度性清洗就显
要和得。为了达到程的要,性清洗的设计含有溶剂化材料解脏污,
12-2 板清洗剂设计
清洗剂设计 技术基 PH值冲 设计
水基无冲 +溶剂 中性 清洗液或者水 超声波或者空喷射
焊接、部
助焊剂残留
水基
+无机溶剂+
能性添加
DI 超声波或者空喷射 焊接
水基
++
+添加
DI 超声波或者空喷射
焊接锡膏回流
焊剂残留物
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