IPC CH-65B CHINESE.pdf - 第200页

12.9.1.12 监 控和 补 充 清洗溶剂 清洗 高 可 靠 性电路组件时, 需 要 减少 可 变 性。为了区 分 来 自基于统 计 数据 技术的 重 要 项 目的 后 台 变 化,实时 过 程 控 制 统 计 是 必 要的。动 态 的清洗程 序 必须 在一个 基 准 里 监控 , 以 控 制清洗 剂 浓 度 在上下限 内 。 一 旦 清洗 机 里 的 浓 度 被 冲 淡 了, 应 该 使 用清洗 箱 内 的 监控方法 来设 置当 …

100%1 / 215
12.9.1.11 ⽓和带离成的程中,清洗阶段流失了清洗疏散到通
进入,并 清洗进入化学分离阶段。为了持成本化的
程,类型损失被降
/损失出、动、力和力影
•高
了清洗损失耗尽平。为了类问题必须被
目前,液态处理时,水是十分发的溶剂。清洗水分液态状态
趋势
有一机原从排出。此,水处理备正以更速率损失
耗尽
喷淋室中状态气中
更多清洁设损耗
液态的有发成气趋势,并所有的气液体趋势清洗
力和所用的材料后将液体气化并且直耗尽
发所导致水基清洗损失11低蒸往往凝结回到清洗
带着清洗的清洗到下一个处理程。对单室于机产品硬
上的清洗清洗步骤流入水冲步骤中。对在线清洗传送
动,产品硬件和出的传输到下一个处理程,
化学室。与损失
损失水基清洗剂是11的。然有5%-15%浓聚液体大部是水
清洗设的公司设计出了可以同减少损失机器减少损失
连续在线工的设
设计了技术,动气,可使水滴聚结回到清洗
降低使结回到清洗
上的含有使它回落
上清洗层压流去收集清洗液体到清洗
于自动的单腔膛多腔膛生产的设
使用的溶液的通
在清洗
减少损失
连续在线清洗
上一个到化学离空间距离缩了到化学
化学区中的擦拭板并清洗流向使到清洗储槽
用一个化学清洗使它到清洗储槽
板和台可液体到化学腔内
单个和腔膛式线清洗设
设计的为了液体确保清洗的液体排放回清洗储槽
用的通的以净
的时清洗到洗并清洗
的设计和位可小化
20117 IPC-CH-65B-C
185
Copyright Association Connecting Electronics Industries
Provided by IHS under license with IPC
Not for Resale, 11/27/2015 19:13:55 MST
No reproduction or networking permitted without license from IHS
--`,`,,,,`,`,,,`,,,`,`,`,`,,,```-`-`,,`,,`,`,,`---
12.9.1.12 控和清洗溶剂 清洗性电路组件时,减少性。为了区自基于统
数据技术的目的化,实时要的。动的清洗程必须在一个
监控制清洗在上下限
清洗了,使用清洗监控方法来设置当前的清洗前的
清洗度已经固
目标被加回到清洗为清
升浓到目标过监控方法去验。添加的清洗缩液的量可
过方X=[(目标%-实%(清洗容量]/100%-目标%来计
12.9.1.12.1 状态 代表,清洗在有提升温
设计设中运,清洗
出的损失了,损失了,及清洗泄漏损失了。为了清洗,
时,泄漏清洗出污物造损失时,添加入新的清洗。清洗添加
了清洁准。清洗添加污染达到临界的污染物水准,清洗室达到
状态。一清洗的技术能
清洗的污染长清洗寿命另外清洗
的量大,可清洗的污染到达临界准,长清洗寿命
12.9.1.13 使寿命延 清洗化物质溶剂的清洗在清洗系统装一个
,通过过清洗溶剂出来长清洗使寿命。能与清洗溶剂兼容的器或者
可能
用来清洗溶剂中的12大小的残留物质。与一个可
使用的面对一个,而背对个洗 可能会在生产或者生产
使用,或者可能有比如小时5使用。这种系统或
清洗阶段吸
入式和在处于高压端
的所有物质。洗清洗体物质减少使得清洗的清洗效率
更高,可以避清洗溶剂导致的清洗溶剂起泡以降低残留物质
式加热器的涂。电子业组装的印制线路板清洗得证明了洗寿命
前的10
12.9.1.14 污⽔任何污排放,不管是总流其化学成都必须合所有国
的,区性的和法规的要求。在相对允许下,这些法规严格量限
会有不许多洲,在国范围对污水质量的许多面都有严格法律
求。其有相对不面的法规
比较重要的一面。机构对国性的
法规们的方处理处理些超法规要求的污。对国法规
损常小的用证明处理污染的污成本与污可能导致
不成排放必须要明在一个证明可用的设另外一个有可能不能使
用。总之,在一个方使用一个设利机构讨论下,为一个成的污染
的。
国,在清洁法案的要求下,排放,不管是总流是它的化学成都可能要
水处理出一个限可量限制。之外可量限可能要得到
的州的或者是性的环保准。任何从后清洗程中出来的新的或者是
的污
放之前都受地共处理员的检查要。检查可能会导致共处理
厂放排放量限求,或者可能会导致降低对限检查的要求。对新的排放有要求在
90一份检测报告。对污水处理每日排放5的,必须要提供副
检测报告环保公室。
12.9.1.15
在线冲洗部分 一个在线清洗系统洗部一个
使用部洗部洗部清洗阶段残留下来的更加
IPC-CH-65B-C 20117
186
Copyright Association Connecting Electronics Industries
Provided by IHS under license with IPC
Not for Resale, 11/27/2015 19:13:55 MST
No reproduction or networking permitted without license from IHS
--`,`,,,,`,`,,,`,,,`,`,`,`,,,```-`-`,,`,,`,`,,`---
清洗的产品阶段操作两种式完成的,具体取决于具体
程。在一个程中,阶段出来,或者喷流出来,然
环冲阶段流进槽里此,清洗的产品是穿系统进入更加纯净
的部的。在一个有清洗化学物质水基溶剂过程中,其目的
清洗阶段阶段最
开来,点是带离液的量来实现的。不管是量的成本的
度着清洗化学物质在洗槽里的。在这种情况下,可
洗的产品有限的空间里将残留的清洗化学物质出来。要注意是冲阶段动力学
要与洗的产品相兼容。话说阶段
用来清洗有限空间洗的产品的清洗剂应要能
掉那有限空间残留的清洗化学物质
两种程中,清洗阶段,然后喷流到可环冲洗的洗槽里。在一个性能
的清洗系统,其目标要清洗的产品阶段前,所有的残留的清洗化学物质
经被了,程中的残留物助焊剂,都经被了,清洗的产品已以进入
一个阶段了。
用来子杂使产品中的杂量和程标准中设
平要求。
12.9.1.15.1 冲洗质量要 水质的时,主要单位阻率,用ohm-cm
表示。然而,有其征像溶于水总固体物质考虑到。比如
合要求的电阻率水平,含有非离会有产品质量。此,
洗的过微
(通过机械过)和去离处理清洗产品后续程和产品质量标
准所的。
,用在不要的上大的线路板,在清洗后续处理过程,可能有一
表上量要求。这种情况下,经足达到水质的要求
了。与的一面可能是具
要求的产品在清洗要求做敷形涂覆。在情况下,
要求要过机械过大程去离处理。出目的,对水最大程去离
处理导致阻率达到18.2兆欧姆-1兆欧姆-18.2兆欧姆-比较小的
于水总固体物质含量比较大的成本。用18.2兆欧姆-的清洗系统
1兆欧姆-清洗系统,然而在清洗效果差甚。关1兆欧
-去离满足清洗阶段求。
线工程和量工程清洗标准。必须满足这些标准要求。可能会要求
清洁度测试和一些反复的实验来定最的工标准。
12.9.1.15.2 冲洗⽤⽔的 洗用来源。在
单的情况下,果水质是满足洗工
要求,洗用区的获取要求出了可获取,可
多种水处理方案。为了消除,可考虑使细过
渗透或者碳/离程的一个起始步骤
小到1
的杂0.1,而细过0.01。对
于水电子用要求在单的机械过上的,我们渗透或者碳/离
选择正确方法产生冲洗用要了要求。计的用量的可水质是什么
确保正确
程设使用,系统的要求是什么量,力,和?最
要实现设佳性价时,选择正确降低使用成本到的。
12.9.1.15.3 渗透 渗透RO一个使渗透的一个程。与能特定规
本的机械。不渗透及的
使溶质部位的
20117 IPC-CH-65B-C
187
Copyright Association Connecting Electronics Industries
Provided by IHS under license with IPC
Not for Resale, 11/27/2015 19:13:55 MST
No reproduction or networking permitted without license from IHS
--`,`,,,,`,`,,,`,,,`,`,`,`,,,```-`-`,,`,,`,`,,`---