IPC CH-65B CHINESE.pdf - 第51页

5.4.3 板和 元器 件表⾯ 处 理 普 通的 无铅 PCB 表面 处理 包 括 化学 镍 / 浸金 ( EIG ) 、 浸锡 ( ImSn ) 、 浸 银 ( ImAg )和有 机 可 焊 性 保护 层 ( OSP ) 。 这些 表面 处理 很 容易 受 腐蚀 和 储 存期问题 影 响 。相 反 , HASL ( 热风整 平)表面 处理 有 很 厚 的 保护 性 金属 , 因 而能 很好 防腐蚀 ,大 约 50 微 米 的 低 活…

100%1 / 215
元器件和情况
材料、工、化学的相用。
选择的印制电路板代表产品硬的组件,包、表BGA
装技术、和电源电路。品数量为10
注:有可能的好直接测试的实本。
用来作测试试料、方法、设和工生产际产品件一PCB测试
学的、机械的和表面评估
注:处应使用适的技术。期使用的大的可能要这些
或者感的料并测试数量,而不测试一个批号
5.3.4 ASTM和其它测试标准 ASTM了有助于设计工程、制工程和工工程选择最
适清洗和工的标准。
7
确定物料与清洗工的兼容性,ASTM标准第2章节中明了料兼容性
要求。
注意到有腐蚀标准。上能搜索到大量目。一有关能的,一及到
检测产品腐蚀,包ACE腐蚀工程会)ISOEFC腐蚀科学合会)
GfKorr(德国腐蚀保护学会)。合适的腐蚀测试以以
5.4 PCB组件⽆铅化的影响 无铅焊接可能料兼容性问题许多PCB组件板的表面处理
板和元器将改以经达到260° C[500° F]焊接PCB板的表面处理正热风焊
到适用于细表面装组件面要求的工面板表面处理面上的OSP
浸金后保存期限并容易腐蚀助焊剂基于子量材料,
种高子材料能改善性、减少表面张力和使焊润湿
良好助焊效果
2
更高焊接,小化和润湿能力将改变助焊剂残留物于热量影子量助焊剂
残留可能清洗,复杂的成加回流程中的用。清洗材料,清洗设和工
可能。组件可能长的洗即更长时的化学暴露能量,热度和时
这些因素响物料兼容性问题
下小节将讨论有关PCB元器件、板和元器件表面处理、组装材料和组装设
的兼容性
。设计问题在单的章节中讨论
5.4.1 PCB ,用清洗点认基于物料组成的无铅应一个
然而,用到的阻焊膜和板的表面处理可能无铅PCB造过程中更高温的影5.5.6
节关不合适的阻焊膜烘烤
5.4.2 元器 使铅焊料的制中,关注点集中在元器形状元器
回流焊接的工
能力。元器或者最升温速度很少考虑回流过最允许
允许升温速度无铅材料要求认识元器元器件的或者湿
等级无铅兼容会提成本。
元器件清洗问题部件标脱落金属腐蚀、表面涂覆层脱落非密件的隐患。组装
确保元器与清洗工兼容。清洗检查元器件性能,部件标
识附着情况元器件表面
性,注意湿等级MSLJ-STD-020)和pH值。
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5.4.3 板和元器件表⾯ 通的无铅PCB表面处理化学/浸金EIG浸锡ImSn
ImAg)和有保护OSP这些表面处理容易腐蚀存期问题。相
HASL热风整平)表面处理保护金属而能很好防腐蚀,大50
电路系统环境效应(包清洗工开。替代的
面的表面处理用一保护使
金属腐蚀。用在表面镀层上的有机保护会在焊接回流和清洗工
5.4.4 组装材料 替代无铅材料必须多次260° C
[500° F]回流而不影性。端温破坏化学使材料脆弱多次回流可能产生一个
暴露清洗工中的材料兼容性问题
更高温助焊剂树可能的清洗
更高能量来清洗。
暴露更高中,玻璃T
g
膨胀系数CTE)和解温度是需考虑
玻璃度是材料状态状态时的CTE量材料在玻璃上下
膨胀过度热基材和元器件会材料成分分这些这些部件到清洗工后经
得明
因素响焊选择,包可印性、寿命测试性、
性、回流窗口焊点外观
和清洗。组装必须确定因素是最要的选择。长时热造助焊
剂残留情况。一个组件升温更短上时更低的峰值度测试
于焊锡膏板和 印清洗)和组装清洗,助焊剂化学性质变可能清洗
印清洗的步考虑是双SMT板的第二面印。这种情况下,
印清洗回流助焊
剂残留和板的表面处理的相常重要。
着产无铅过间需通和合料影支持组件对
的要求。组装要了解回流线-峰值升温速度对可性和清洗的影
组件用组装有特殊性能要求的更高等级的组件或者产品时,组件间需通。
5.4.5 组装设备 组装无铅过
要求设升级以支持工。清洗设可能要求考虑长洗
机械冲事项产品硬件可能的化学和机械效应,可能包高碱性和腐蚀性材料。
考虑清洗和清洗设的组合对产品的影。工艺优化在清洗设计中常重要的用。
清洗对材料的选择要的考虑
备例如波具应是物考虑的一部更缓传送带速度
锡波
暴露长时中。此可能经常清洗。
的可印性主要取决于助焊剂类型注无铅精度板的清洁无铅
样扩散或者润湿精确到印制电路板上无铅焊像锡铅焊那样动对
中,并连锡回流焊接可能连锡
5.5 设计问题和兼容性 下面的小章节讨论元器件和组件小化的含密度
的影
5.5.1 型化的影响 下一代装在任何时都要基于数技术的产品的新兴求。组装
系统周围的管理性。,第一装和电子系统使用的
的兼容性有挑战性。
料面的挑战开发新料和在新用中使前的料。同种芯片成到
一个元器件中新。在新组合中使前的料挑战
料兼容性设计和考虑可能
要求设计、工和材料学面发
的电源在大改进当将多装到一个用中,动和使
困难芯片粘接剂叠芯片装时,要
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改进合、性、湿环境兼容性、性和CTE问题。工中用到的间接物
助焊剂,清洗材料和涂覆剂正变得复杂。这些料的化学性消除这些料在接物
中的有的相或者残留物变得关
5.5.2 元器件密 密集分 低托高高的组件可能要一个严格的清洗工,包长时
更高的清洗力性的化学助焊剂残留物
清洗剂残物
元器件下有可能的,这将导致腐蚀或者电化学迁移考虑对表面量和元器性的影
5.5.3 特殊的兼容性实例 许多料和子组件,如配套元器件、标、部件标、涂覆
材料和焊接清洗工有关。出工化学元器件表面处理可能
组合的数据非。下面的章节列兼容性问题的实这些出在生产
测试硬
与清洗和工的适合性的要性。
5.5.3.1 阳极铝 第一个实包含在清洗工3级别组件,制到的关于阳极
和化学膜问题的深讨论。本也描述了阻焊膜和涂覆
清洗剂/电子组件问题在他们的生产
3电路组件上的一元器件的阳极处理于防腐蚀、电绝缘
粘接
8
阳极用电化学工艺产生一个明的表面保护于大气之外
9
5.5.3.2 MIL-A-8625F 阳极
1.1 范围: 涵盖用在表面电成六类型两种级别
阳极的要求。
1.2 类型: 范列出了六类型
类型I 阳极氧化,产生于酸槽3.4.1
类型IB 阳极氧化,22±2V3.4.1
类型IC 阳极氧化,
代替类型IIB3.4.16.1.2
类型II 硫酸阳极氧化,产生于硫酸槽3.4.2
类型IIB 硫酸阳极氧化,代替类型IIB3.4.26.1.2
类型III 硬质阳极MIL-A-8625F 3.4.3
这份标准 MIL-A-8625F)中应⽤电⼦组件的要要有:
3.3.1.2 组件阳极氧化理: 使用的方法
组件。
3.3.4 (机械损伤和接 机械(来清洗工过阳极
处理5%或者允许
3.4.3 类型III(⼀应⽤电⼦件) 类型III任何工艺操作
表面产生一个规定致密3.7.2.1
3.8.2 类型III:应浸入一个介质实现类型III
如沸DI,在的含5%
酸钠溶液中,或者合适的化学溶液
4.3.4 失效 生产
6.11 或者过酸钠溶液行处理腐蚀性。
6.15 DI水密的。
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