赫立AOI中文客户培训教材(2) - 第18页
Mark 定位 算法定 义 : 在 检测 窗口指定的区域内，通 过 亮度 过滤 及 Mark 点的 形 状、 大小 设 置来自 动 搜索并 定位 Ma rk 点的中心位置，达 到将元件窗口位置和每 块 待 测 PCB 实际图 像更精确地 进 行位置匹配的目的。 过滤 效果 光源效果 设 置 mark 合格范 围 ，即 绿 色 圆 圈和 m ark 点重合的百分比，有 时 候因 为 mark 氧化，亮 度会不 稳 定， 导 致 绿 圈中心…
版權所有：2006赫立國際控股有限公司
/上海赫立電子科技有限公司
Mark 定位 算法定义:
在检测窗口指定的区域内，通过亮度过滤及Mark点的形
状、大小设置来自动搜索并定位Mark点的中心位置，达
到将元件窗口位置和每块待测PCB实际图像更精确地进
行位置匹配的目的。
过滤效果
光源效果
设置mark合格范围，即绿色圆圈和mark
点重合的百分比，有时候因为mark氧化，亮
度会不稳定，导致绿圈中心并非mark中心，
如果不设置范围，所有坐标会认为mark OK，
坐标都会按绿圈移动相同的距离，不在测试
点上，导致误报很多
Mark 制作方法
1. 创建mark 料号 ，选择类型为mark（必须选），按住鼠标左键和ctrl拖动料号到
mark 图像位置，会出现一个绿框坐标，mark一般做对角 ，建立两个mark坐标
2. 选择算法：mark 定位，在搜索框内寻找一种光源（mark亮度明显和周边亮度
有明显差异），例如mark点亮度为0.8，mark周围亮度为0.1，我们需过滤掉0.1的亮
度，如右图过滤阈值0.405---1 , 符合这个区间的亮度会在我们的搜索框里呈现出白
色效果，绿色的跟踪圆圈会自动的搜索白色效果且符合形状尺寸的地方，若想准确
的找到mark点，我们必须过滤掉干扰我们的亮度
按住鼠标左键和ctrl拖动料
号到mark 图像位置
算法：相对偏移值
每次拍照后，mark坐标都会与mark图
像有一个X,Y 的偏移量，当绿色的圈搜索到
mark图像后会指令告诉所有的元件坐标移
相同的X,Y 偏移距离，这样坐标就会与图像
重叠了。这个算法叫做：相对偏移值，选择
此算法并降级（如下图），然后应用MARK调
整元件坐标直至坐标与元件图像重合（如图
1，图2调整坐标过程）
坐标中心与mark中心
有相对X,Y偏移量
应用MARK后坐标中心和
MARK中心重合
直到坐标与元件重合
例如：若元件的坐标在元件的右上角，
就将mark坐标同样挪到右上角，应用
MARK后，mark坐标会与MARK点中心重
合，所有的坐标会移动同样的X,Y距离
图2
图1