RX-6 使用说明书 用户使用 Rev11 - 第824页
第 2 部 功能详解篇 第 8 章 机器设置 8- 72 8-4- 2 执行轴移动 (1) 控制 XY 轴 XY 轴的移动如下 所示。在主画面 上选择控 制单元，即可移 动轴。 ※ 设置 VC S 、 CVS 、 SOT 方 向检查台、 IC 回收带为有效 后，即可选择。 ※ 从「 Head 的吸嘴有无状 况 」启动简易 控制画面后， 只能对以下 项目进行操作 。 ・ 控制单元 : 选择 Head 1 ~ 6 、 OC C(LR) 、 …
第 2 部 功能详解篇 第 8 章 机器设置
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8-4-1 显示轴移动
选择[ Head 控制 ] – [ 任意坐标 ]选项卡，会显示以下画面。
按下[ 执行 ]按钮，以控制单元基准及指定速度将轴移动到[ 任意坐标 ] 的移动坐标上。
第 2 部 功能详解篇 第 8 章 机器设置
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8-4-2 执行轴移动
(1) 控制 XY 轴
XY 轴的移动如下所示。在主画面上选择控制单元，即可移动轴。
※设置 VCS、CVS、SOT 方向检查台、IC 回收带为有效后，即可选择。
※从「Head 的吸嘴有无状况」启动简易控制画面后，只能对以下项目进行操作。
・控制单元 :选择 Head1 ~ 6、OCC(LR)、HMS(LR)
・XY 轴控制:等待位置、废弃元件位置、VCS 位置、标记位置、单元位置、任意坐标
・Z 轴控制 :仅进行 Head 的动作。「等待、激光、XY 移动、基准、交换吸嘴、VCS、SOT 方向
检查台、CVS、共面性」高度、任意坐标
·XY 轴控制(控制单元：OCC、Head、HMS)
No.
移动位置项目
详细项目
1
前侧操作时
将所有
Head
移动到后侧。
2
后侧操作时
将所有
Head
移动到前侧。
3 ATC 操作时 将所有 Head 移动到 ATC 操作时位置。
4
生产时
以指定控制单元基准移动到生产时的位置。
5
卸下吸嘴时
以指定控制单元基准移动到吸嘴拆卸的位置。
6
元件保护暂停时
以指定控制单元基准移动到元件保护暂停时的位置。
7
原点
按照
OCC
基准移动到原点坐标处。
8
共通标记
1
以指定控制单元基准移动到共通标记
1
位置。
9
共通标记
2
以指定控制单元基准移动到共通标记
2
位置。
10
共通标记
3
以指定控制单元基准移动到共通标记
3
位置。
11
台架标记
以指定控制单元基准移动到供料器台架标记识别位置（可动范围）
。
12
裸芯片平台
以指定控制单元基准移动到裸芯片平台位置。
13
校准台
以指定控制单元基准移动到校准台的第一标记位置。
14
真空校准
以指定控制单元基准移动到真空校准台单元的位置。
15
IC
回收带
以指定控制单元基准移动到
IC
回收带的位置。
16
SOT
方向检查台
以指定控制单元基准移动到
SOT
方向检查台位置。
17
CVS
以指定控制单元基准移动到
CVS
位置。
18 共面性 以指定控制单元基准移动到共面性位置。
·XY 轴控制(控制单元：Head 1-6)
No.
移动位置项目
详细项目
1
元件废弃位置
(
小型
)
以指定控制
Head
基准移动到小型元件废弃位置。
2
元件废弃位置
(
中型
)
以指定控制
Head
基准移动到中型元件废弃位置。
3
元件废弃位置
(
大型
)
以指定控制
Head
基准移动到大型元件废弃位置。
4
元件废弃位置
(
特大
)
以指定控制
Head
基准移动到特大元件废弃位置。
5
标准
VCS
以指定控制
Head
基准移动到标准
VCS
位置。
6
高分辨率
VCS
以指定控制
Head
基准移动到高分辨率
VCS
位置。
第 2 部 功能详解篇 第 8 章 机器设置
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(2) Z 轴控制
[控制单元]指定 Head 时，可移动 Z 轴。
会显示等待高度、激光高度、XY 移动高度、原点高度、交换吸嘴高度、VCS 高度、SOT 方向检
查台高度、CVS 高度、共面高度按钮。下表所示之外的位置按钮全部无效。
※ 当执行[交换吸嘴高度]按钮时，会显示吸嘴下降提示信息。
·Z 轴控制(控制单元：Head 1～6)
No.
移动位置项目
详细项目
1
等待高度
指定的
Head
移至激光高度元件上方
+ 0.5mm
的位置。
2
激光高度
指定的
Head
移至激光高度的位置。
3
XY
移动高度
指定的
Head
移至元件高度上方
+ 3mm
的位置。
4
原点高度
指定的
Head
移至原点高度的位置。
5
交换吸嘴高度
指定的
Head
移至交换吸嘴高度的位置。
6
VCS
高度
指定的
Head
移至
VCS
高度的位置。
7 SOT 方向检查台高度 指定的 Head 移至 SOT 方向检查台高度位置。
8
CVS
高度
指定的
Head
移至
CVS
高度的位置。
9 共面高度 指定的 Head 移至共面性测量高度位置。