赫立AOI编程步骤.pdf - 第29页

版權所有: 2006 赫立國際控股有限公司 Ho lly International Holdings Corporation MARK 的制作 1 )类型:( MARK ),新建检测窗口,搜索范围放大; 2 ) 算法: MARK 定位 (灯光选择,过滤阀值,使 MARK 点变亮 与周边亮度区分,尺寸大小,百分比下限设定 50 - 80% ) 3 )新建检测窗口, 算法:相对偏移值,降级。

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程序调试
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MARK的制作
1)类型:(MARK),新建检测窗口,搜索范围放大;
2算法:MARK定位(灯光选择,过滤阀值,使MARK点变亮
与周边亮度区分,尺寸大小,百分比下限设定50-80%
3)新建检测窗口,算法:相对偏移值,降级。
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电容的制作()
1新建检测窗口,框住整个焊盘;
2算法:全板匹配剔