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Mark 定位 算法定 义 : 在 检测 窗口 指定的区域内 ,通 过 亮 度 过滤 及 Mark 点的形 状、大小 设 置来自 动 搜 索并定位 Mark 点的中 心位置,达 到将元件窗 口位置和每 块 待 测 PCB 实际图 像更 精确地 进 行位置匹配 的目的。 过滤 效果 光源效果 设 置 mark 合格 范 围 ,即 绿 色 圆 圈和 ma rk 点重合的百分 比,有 时 候 因 为 mark 氧化,亮 度会不 稳 定 , 导…

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Mark 定位 算法定:
检测窗口指定的区域内,通过滤Mark点的形
状、大小置来自索并定位Mark点的中心位置,达
到将元件窗口位置和每PCB实际图像更精确地
行位置匹配的目的。
过滤效果光源效果
mark合格,即绿圈和mark
点重合的百分比,有mark氧化,亮
度会不绿圈中心并非mark中心,
如果不,所有坐认为mark OK
都会按绿圈移相同的距离,不测试
点上,很多
Mark 制作方法
1. mark 料号 选择mark(必须选,按住ctrl号到
mark 位置,会出一个绿mark一般做 ,建立两个mark
2. 选择法:mark 定位,在搜索框内找一种光源(mark亮度明和周亮度
有明差异),例如mark点亮度0.8mark亮度0.1,我0.1
度,如右图过滤阈值0.405---1 , 符合个区的亮度会在我的搜索框里呈出白
色效果,绿的跟踪会自的搜索白色效果且符合形状尺寸的地方,若想准确
的找到mark点,我须过滤掉干的亮
按住ctrl
号到mark 像位置
算法:相偏移
每次拍照后,mark都会mark
像有一个X,Y 的偏移量,当绿的圈搜索到
mark像后会指令告有的元件坐
相同的X,Y 偏移距离,这样就会与
重叠了。算法叫做:相偏移
此算法并降(如下),然后MARK
整元件坐直至坐与元像重合(如
12整坐标过程)
中心与mark中心
有相X,Y移量
MARK中心和
MARK中心重
直到坐元件重合
例如:若元件的坐在元件的右上角
就将mark挪到右上角,
MARK后,mark会与MARK点中心重
合,所有的坐会移X,Y
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