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《用户手册》 SIPLACE CA- 系列 3 技术数据 使用软件版本 SC.707.0 或更新 2013 年 10 月版 简 体中文 3.7 SIPLACE 晶圆系统 (SWS) 137 3.7.3 基本晶粒呈现处理 由 SWS 支持的基本晶粒呈现处 理可以划分为 3 个主要步骤: – 推出前的晶粒识 别和定位 (包括墨点识别或晶圆图) – 推送处理 – 为晶粒贴附或倒 装片处理进行拾取。 图 . 3.7 - 2 基本晶粒呈现处理 有…

3 技术数据
《用户手册》 SIPLACE CA- 系列
3.7 SIPLACE 晶圆系统 (SWS) 使用软件版本 SC.707.0 或更新 2013 年 10 月版 简体中文
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3.7.2 基本 SWS 功能
主要晶粒处理元件为晶圆台、推送系统、倒装单元和装有相应软件的控制单元。
带有相应晶粒的晶圆从晶圆盘中被取出然后被固定在晶圆台上。晶圆台使用推送系统贴装晶粒
(此系统将晶粒从晶圆盖箔中释放出来),然后把它转送到倒装单元。倒装单元将晶粒旋转 180°
让其可以被贴片头拾取。
SIPLACE CA 使用一个高精度的 SIPLACE 贴片头 (此贴片头专为高精确度设计)以达到在一般
情况下以 35 µm (3 Sigma)的力度下放,在有限制的条件下以 25 µm (3 Sigma)下放 (关于
限制,请查看 “ 交付范围 ”)。
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为支持全范围的处理导向型功能,以下选项可供选择:
– 晶圆布局图系统
– 线性浸渍单元
– 晶粒贴附单元
– 小号晶粒套件 (根据要求提供)
– 条形码扫描仪
– 晶圆延伸器
– 检验相机
请注意
SWS 中所有可移动的定位轴都为伺服轴!

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3.7.3 基本晶粒呈现处理
由 SWS 支持的基本晶粒呈现处理可以划分为 3 个主要步骤:
– 推出前的晶粒识别和定位 (包括墨点识别或晶圆图)
– 推送处理
– 为晶粒贴附或倒装片处理进行拾取。
图 . 3.7 - 2 基本晶粒呈现处理
有两种主要的贴装变化 - 倒装片和晶粒贴附。

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3.7.3.1 倒装片处理
倒装片处理是 SWS 的标准方法。它包括了在贴装到印制板上之前将晶粒旋转 180° (面朝下贴
装)。
倒装片处理方法当前正在成为一个主流趋势。此工艺主要被运用在消费性电子产品组件中 (如,
处理器、图形处理器、内存)。
晶粒的输入 / 输出 (I/A)直接与 PCB 相关联,所以与传统的晶粒贴附工艺相比它带来了几个优
势:
更小的空间要求
更快的信号转送
每个元件更高的 I/O 密度
图 . 3.7 - 3 倒装片处理
倒装片处理的步骤有:
– 第 1 步:晶粒释放
– 第 2 步:晶粒被旋转 180° 然后被传送给贴片头。与此同时,下一个晶粒被倒装单元的第二个
吸嘴拾起。