ASM_PSP_Catalogue_JA_200701.pdf - 第11页

ASM LASER CUT STENCIL ( ASM レ ー ザ ー カ ッ ト ステンシル ) 標 準 的 なステン レス レーザー カ ッ ト ニ ッ ケ ル フ ァイングレ イン ス テ ンレ ス 標準的な エレク トロフ ォーミ ング ニッケ ル プラチナ エレク トロフ ォーミ ング ステンシル 素材 304 PHD ニッケ ル フ ァイングレ イン ス テンレ ス 硬質ニ ッ ケル 硬質ニ ッ ケル 材料硬度( HV ) …

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DEK Fine Grain ステンシ
Bild fehlt
DEK Fine Grain ステンシルDEK Mesh-mounted ム、
DEK VectorGuard ClassicDEK VectorGuard High Tension
システムで使きます。インインステンレ
シルに、よかなレーザの開口部側面を
ペー転写材料の転写効率を向上ます。ニルに代
費用対効果の高いレイスは、難度の高い
設計高密度ーに最適です
イングイン使 DEK Fine Grain ステンシル
なはんだペムーズなシル表面を実
DEK Stencil ル技術仕様
ASM LASER CUT STENCILASM ステンシル
なステンレス レーザー イングレインンレ 標準的な
エレクトロフォーミング
ニッケ
プラチナ
エレクトロフォーミング
ステンシル
素材
304 PHD ニッケ ァイングレイン
テンレ
硬質ニケル 硬質ニケル
材料硬度(HV ≥ 370 >470+ ≥ 370 500 +/-50 500 +/-50
粒径(µm 16-25 1 ≤ 2 1 0.6
製造可能な厚さµm 80-250 100-175 80-250 75- 200 20-230
厚さ許容差 4% 7% <2% 10% <5%
エリア >0.66 >0.6 >0.55 >0.5 >0.5
最大シー 690mm 584mm 610mm 610mm 584mm
開口部サズの許容差 ± 5 µm ± 5 µm ± 5 µm ± 10 µm ± 4 µm
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プロセスサポー
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ASM ステンシルとムテクノロジー
ASM LASER CUT STENCILASM ステンシル
なステンレス レーザー ァイングレインンレ 標準的な
エレクトロフォーミング
ニッケ
プラチナ
エレクトロフォーミング
ステンシル
素材
304 PHD ニッケ ァイングレイン
テンレ
硬質ニケル 硬質ニケル
材料硬度(HV ≥ 370 >470+ ≥ 370 500 +/-50 500 +/-50
粒径(µm 16-25 1 ≤ 2 1 0.6
製造可能な厚さµm 80-250 100-175 80-250 75- 200 20-230
厚さ許容差 4% 7% <2% 10% <5%
エリア >0.66 >0.6 >0.55 >0.5 >0.5
最大シー 690mm 584mm 610mm 610mm 584mm
開口部サズの許容差 ± 5 µm ± 5 µm ± 5 µm ± 10 µm ± 4 µm
DEK Multi-level ステンシ
イクロミング よって DEK Multi-level(ステステンシル
広いに分散されたポーネのはんだペー高さ量を最適
優れた精度再現性を実現
DEK Multi-level(スプ)ステシルには、スレス製
ル製があ、広い面積に配置された精密ピチ部品の SMT
板へのペー印刷に最適ですシルは
BGA0.3mm QFP0201mm)な小型の部品を使用す
場合や、パケーグ用途、特殊はんだペー配合の転写に
優れた印刷性能を提供
Multi-level シルは業界標準付きレームDEK
VectorGuard ™ ClassicDEK VectorGuard ™ High Tension フレ
テムで使きます。
ット
各種部品が混在柔軟に対応
高精度な位置決め
はんだペーの均一性向上
非常に滑かな表面構造精密なエジに精度が向上
最適化れた表面構造にペーの無駄を最小化
のペー残留を大幅に削減
圧力に敏感な領域への柔軟な設計
プロルの改良にキージ印圧を大幅に低減
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DEK Electroform ステンシ
標準 SMT イク SMT、半導体、太陽光や LED 照明用途おい
安定た印刷はんだ量を実現
DEK Electroform シル技術に、スシルの厚
一性を制御標準 SMTイク SMD導体、ピースパーツ
LED 照明な複数の用途で材料体積整合性を確保ますDEK
Electroform ステシルは、アプロセスに非常に複
な設計で製造され、キビテ部品の周囲複数レベルへの
非常に細かいはんだペーの印刷に対応でき
Electroform シルの使用は、従来のデスペグや
レーコーグ技術に代わ、多の用途で高いスルー
を確保する方法であUPH1 時間あたの生産数)歩留ま
上しす。
用途:
半導体パージ
-
ハーおよび基板へのバ
-
ボール実装
-
レーム印刷
-
ハーや基板上の 3D 印刷
-
低温同時焼成セス(LTCC
-
イアタッチ
LED 印刷
-
LED レーム印刷
-
プチプ実装用ス印刷
-
ハーやフプチ上の蛍光体層印刷
-
ース
表面実装
-
標準 SMT 印刷
-
VAHT シル:ざまな開口部の高さに対応
-
3Dシルざまな高で開口部を印刷部品を覆い、
対象領域周囲を印刷。
ース
-
電子テスプロー
-
電子機器部品
-
ルやシブなその他の部品
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プロセスサポー
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ASM ステンシルとムテクノロジー