赫立AOI中文客户培训教材(2).pdf - 第19页

算法:相 对 偏移 值 每次拍照后, mar k 坐 标 都会与 ma rk 图 像有一个 X,Y 的偏移量,当 绿 色的圈搜索到 mark 图 像后会指令 告 诉 所有的 元件坐 标 移 相同的 X,Y 偏移距离, 这样 坐 标 就会 与 图 像 重叠了。 这 个算法叫做:相 对 偏移 值 , 选择 此算法并降 级 (如下 图 ),然后 应 用 MARK 调 整元件坐 标 直至坐 标 与元件 图 像重合(如 图 1 , 图 2 调 整…

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Mark 定位 算法定:
检测窗口指定的区域内,通亮度过滤Mark点的
状、大小置来自搜索并定位Mark点的中心位置,达
到将元件窗口位置和每PCB实际图像更精确地
行位置匹配的目的。
过滤效果
光源效果
mark合格范,即绿圈和mark
点重合的百分比,有候因mark氧化,亮
度会不定,绿圈中心并非mark中心,
如果不置范,所有认为mark OK
都会按绿圈移相同的距离,不在测试
点上,误报很多
Mark 制作方法
1. mark 料号 选择mark(必须选,按住ctrl料号到
mark 像位置,会出一个绿框坐mark一般做 ,建立两个mark
2. 选择算法:mark 定位,在搜索框内找一种光源(mark亮度明和周亮度
有明差异),例如mark点亮度0.8mark亮度0.1,我过滤0.1的亮
度,如右图过滤阈值0.405---1 , 符合个区的亮度会在我的搜索框里呈出白
色效果,绿色的跟踪圈会自的搜索白色效果且符合形状尺寸的地方,若想准确
的找到mark点,我须过滤掉干的亮度
按住ctrl
号到mark 像位置
算法:相偏移
每次拍照后,mark都会与mark
像有一个X,Y 的偏移量,当绿色的圈搜索到
mark像后会指令所有的元件坐
相同的X,Y 偏移距离,这样就会
重叠了。个算法叫做:相偏移选择
此算法并降(如下),然后MARK
整元件坐直至坐与元件像重合(如
12整坐标过程)
中心与mark中心
有相X,Y偏移量
MARK后坐中心和
MARK中心重合
直到坐与元件重合
例如:若元件的坐在元件的右上角,
就将mark挪到右上角,
MARK后,mark会与MARK点中心重
合,所有的坐会移X,Y距离
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制作坏板的方法
坏板即多拼板PCB中,其中某拼板为贴装元件,需要制作坏板程式屏蔽拼板上所有的元件检测
注意:坏板拼板号必与拼板号一致
坏板操作步
1. 建坏板料号,选择类bad mark (如1
注意:坏板拼板号必板元件坐号一致
2. 在拼板上找到一个可以用算法定位而参照的中心 ,按
住鼠CTRL 料号到中心建坐
算法定位(2
3 . 新建-- 选择算法:逻辑
算法定选择逻辑过算法后,当算法逻辑或下方的几个子窗
口算法同时报逻辑或算法即警,若一个子窗口算法
则逻辑或不警,即好板
4. 新建--- 围绕定位中心并列做几个子窗口拖
附近的元件像上(如3),做至少个元件缺件
件算法,子窗口的元件同时报缺件即味着
板可能未装元件,此时逻辑警即拼板识别为
坏板,不参与检测
一般做至少三个元件“缺件”的算法
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参考中心
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