IPC CH-65B CHINESE.pdf - 第133页

9.9.4.13 离⼦交换（去离⼦作⽤）在这个过程中，溶解的矿物质（离子）是通过阴阳离子树脂在交换过程中去除的。其中阳离子树脂去除所有带正电的离子（钙离子、钠离子等），并用氢离子来取代它们；而阴离子树脂去除所有带负电的离子并用氢氧根离子来取代它们。当氢和氢氧根离子结…

9.9.4 ⽔净化的⽅法有很多种方法可以去除非离子型和离子型的杂质。下述方法是适合针对电子

部件清洗的：

9.9.4.1 机械过滤是从颗粒尺寸大于 1微米的水中去除杂质的一种屏障法。自来水过滤器可以包

括：

9.9.4.2 筒式过滤器是由许多种材料制造而成，像塑料或者自然纤维（聚丙烯、棉花和其它的物

质），设计多样（比如模塑的、

缠绕纤维、褶皱纸等等），这些多是为盛放较低容量的杂质的设备而

设计的。

9.9.4.3 ⽑毡媒质过滤器（滤袋式过滤器）是由许多种不同材料制造而成，比筒式过滤器能容纳更

多的杂质。所以对有更高流量、能容纳更多的杂质的设备来说，会有一个更低的微粒物质单位重量

成本。

9.9.4.4 颗粒媒质过滤器是由多媒质或者是单媒质物质（许多级别的沙子和其它矿物质）所构成。

这些主要

是用在去除水中悬浮的杂质上。

9.9.4.5 活性碳是一种吸附性的媒质用来去除主要来自助焊剂残渣，阻焊膜污染物等确定的有机分

子。它的特性是从它极大的表面区域衍生而来的。用它可以很有效地为供给水去氯，像反渗透或者

离子交换树脂的预处理一样。

9.9.4.6 ⽔软化处理是一个钠离子通过阳离子交换树脂（水软化剂）被替换成硬度矿物阳离

子（例

如，钙和镁）和其它阳离子，如铁。即使一种离子被另一种离子所交换，但是总的矿物含量不会变

或者说是导电性不会变。主要是水的离子纯度不会变。在其它的软化水或者也许是自来水的应用

中，矿物总量有可能很充足，这取决于使用的自来水的质量或者被软化的自来水的质量。根据指导

方针，水的硬度

大于30-60ppm就应该被软化以降低管口和缸平面的结垢量。

9.9.4.7 薄膜过滤器是由许多种材料（塑料、陶瓷和其它物质）制作而成，这些材料可以形成薄板

或者管子。它们被设计用来去除粒子，有机分子和来自液体流中的离子。大多数的薄膜生成两种流：

一种带有多量的污染物，另外一种带有低量的污染物。存在四种基本类型的薄膜。每种类型的薄膜

根据它们的微米等级和材料的构成不同而不同（顺序由最细的到最粗的）。

9.9.4.8 反渗透（RO）涉及到大约200的分子量的去除。它能够去掉水中所有的分子和多数的离子。

特别是污水可以被净化到电阻率从25000到500000ohm-cm。这是在水清洁过程中最常见的。

9.9.4.9 纳滤膜（F）等级大约涉及从1000到10000分子量的去除。这是

用来去除具体的不溶解的矿

物质，像供给水中的钙和镁（硬度）。

9.9.4.10 超滤器（UF）等级大约从50000到500000分子量的去除。它们主要被设计用来去除有机分

子的，有机分子比通过微量微滤器去除的分子要细得多。离子是不用通过超滤器来去除的。

9.9.4.11 微量微滤器（MF）等级大约从0.05到0.8微米的完全去除

。等级值是基于气孔的大小。离

子是不用微量微滤器来去除的。

9.9.4.12 离⼦交换以下方法是用来去除水中溶解的矿物质（离子）。其它种类的离子交换树脂可以

被用来作许多特殊用途用。

IPC-CH-65B-C 2011年7月

118

Provided by IHS under license with IPC

Not for Resale, 11/27/2015 19:13:55 MST

No reproduction or networking permitted without license from IHS

--`,`,,,,`,`,,,`,,,`,`,`,`,,,```-`-`,,`,,`,`,,`---

9.9.4.13 离⼦交换（去离⼦作⽤）在这个过程中，溶解的矿物质（离子）是通过阴阳离子树脂在交

换过程中去除的。其中阳离子树脂去除所有带正电的离子（钙离子、钠离子等），并用氢离子来取代

它们；而阴离子树脂去除所有带负电的离子并用氢氧根离子来取代它们。当氢和氢氧根离子结合

了，就形成了纯净水。一个双床去离子

方法包含了一个阳离子树脂缸连着一个阴离子树脂缸，通过

此方法出来的水的电阻率范围是从50000到500000 ohm-cm。一个混床去离子方法包含了阴阳离子树

脂的混合物，它们结合在一个缸里，生成的水的电阻率范围从500000 ohm-cm到18.2 megohm-cm。

9.9.4.14 特别的离⼦交换树脂特别应用的树脂，比如，螯合物或者重金属选择性树脂，专门用来

去除重金属，而非其它的

离子（阳离子或者阴离子）或者有机去除性树脂。

9.9.4.15 其它⽅法其它方法在一些非常具体的应用中也是有意义的。通常用这些方法从废水中排

出需要的水再重新使用。这些方法适用于含有溶剂的污水流。最常用的方法是蒸馏。

9.9.4.16 蒸馏是一个通过蒸发来分离出自来水或者洗涤水中的污染物从而得到高纯净度的水或者

净化的溶剂。在一些情况下，也可以用蒸馏来净化洗涤

槽中的水。用这个流程来净化水是适当的，

但这流程所需要的能量使得操作起来的费用很高。在一些地方，使用任何能蒸馏的机器可能需要一

个特权许可证。

9.9.4.17 紫外线照射（UV）是一个通过钝化作用给水消毒或者通过一个特定波长（典型的是254纳

米）的光杀死微生物的方法。

9.9.4.18 臭氧化作⽤是一个用臭氧（气体）来处理水和污水的方法，用一

种超强氧化剂将有机化

合物降解成更小的分子和离子。

9.9.4.19 氯化作⽤是一个使用次氯化钠、氯胺、氯气或者其它含氯化合物给水消毒的方法，水和

表面可以通过杀死和抑制微生物生长的方法来使水得到净化。

10 溶剂型清洗剂

本章节阐述了焊接后电子/电气组件、部件和应用工具的溶剂清洗。

10.1 ⽬的本章节的目的是提供对主题的基本理解，并为溶剂清洗技术的用户或者潜

在用户提供关

于溶剂清洗制程选择或者改进的指南。

10.2 术语和定义本手册中使用的所有术语和定义符合IPC-T-50。对本标准主题讨论至关重要的

基本术语和定义，将在本手册后续的相关章节提供或者定义。

10.2.1 溶剂清洗溶剂清洗是使用溶剂型媒介来洗涤和冲洗电子部件和组件的过程。在溶剂清洗过

程中，干燥是独立应用和独立装备的。在蒸汽去焊的过程中，干燥是通过蒸发在被清洗的零件上的

剩余液体溶剂来完成的，水

被带到由沸腾的溶剂形成的蒸汽带，停放在自由区域内，在蒸汽脱脂剂

中任何剩余的液体一遇到冷却的空气就蒸发掉了。在其它的应用过程中，干燥过程是将剩余溶剂蒸

发到室内空气中。确保使用适当的通风设备以使空气的蒸汽保持在建议的范围内，并且要遵照地方

有关工作环境和排气气流装置的健康和安全性法规。

10.2.2 贝壳杉脂丁醇值（

KB值） KB值是一个对碳氢化合物溶剂溶解力的国际性标准量测值，该值

由美国材料试验协会标准的测试ASTM D1133管理。测试的结果是一个索引比例，会用KB值来表

示。一个高的KB 值表示溶剂溶解特定物质的特性更强或者活跃。特性温和的溶剂分值低，只有十几

2011年7月 IPC-CH-65B-C

119

Provided by IHS under license with IPC

Not for Resale, 11/27/2015 19:13:55 MST

No reproduction or networking permitted without license from IHS

--`,`,,,,`,`,,,`,,,`,`,`,`,,,```-`-`,,`,,`,`,,`---

或者二十几分，而特性强的溶剂像氯化溶剂评级都在好几百。KB值是溶解力的一个指示值，应该结

合其它的测试，如最大的溶解性碳氢化合物测试或者具体的溶解力测试来决定溶剂的清洗力。

10.2.3 共沸混合物一个共沸混合物是两种或者多种液体按一定比例的混合，简单的蒸馏不会改变

它的组成成分。发生这种现象是因为当一个共沸混合物被煮沸时，出来的

蒸汽与原来的混合物成分

是一样的。

10.2.4 洗涤洗涤是首要的清洗操作，利用化学和物理作用将不期望的杂质（污染物）从表面去

除，主要是溶解污染物。

10.2.5 冲洗冲洗是一个通常跟随在洗涤步骤之后的清洗操作，是通过稀释模式用干净溶剂置换残

留污染物，获得干净溶剂润湿的表面。在蒸汽脱脂系统中，在洗涤步骤之后的气压带里冷凝在零件

上的溶剂常常足

够用来冲洗零件。

10.2.6 ⼲燥去除和回收任何残留在已洗涤和已冲洗部件表面的液体溶剂的工艺。在蒸汽去助焊剂

工艺过程中，干燥是在清洗机洗涤区的沸腾溶剂所产生的蒸汽区实施的。在部件表面通过过热溶剂

蒸汽可以增强干燥效果，确保彻底清除残留液体溶剂。这项技术对复杂几何形状的部件特别有效，

可以将液体溶剂完全去除。干燥实际上是发生在设备的冷却区，在冷却区里煮沸的

溶剂重新浓缩并

且可以从组件上滴下来。

10.2.7 去助焊剂（焊剂去除或者焊后清洗）去助焊剂是一个用来去除助焊剂及其副产品的清洗工

艺。其它的目的是清除使用过程中的残留和作为产品辅料的材料，如水溶性掩膜。印制板或者元器

件制程或者其它操作过程中所留下的杂质也可在此工艺中去除，因此，去助焊剂清洗制程扩大了印

制电路组装业者的工艺窗口。

10.2.8 化⼯材料⾸字缩写

• HCFC：氟氯烃

• HFC：氢氟烃

• HFE：氢氟醚

•

nPB：正溴丙烷

• CFC：氯氟烃

• TCE：三氯乙烯

• PCE：氯乙烯

• IPA：异丙醇

• t-DCE：反式二氯乙烯

10.3 溶剂清洗的背景和概述溶剂清洗背后的执行原则是它能够将电子组件上的焊剂残留作为非挥

发性的残留溶解到溶剂中的能力，而冲洗组件用的却是挥发性的溶剂蒸汽。当焊剂残留溶解到溶剂

清洗剂中时，问题就解决了。将焊剂残留溶解到溶剂清洗剂中的能力可以由动态平衡来表示，该动

态平衡由固体助焊剂残留物溶解和

分离两步完成达到固体残留量与溶剂平衡点即可。焊剂残留物溶

解到清洗剂的能力是由溶剂和溶质分子间和分子内的作用力平衡决定的，而且溶解作用过程中伴随

着熵变。比如气温和气压因素能改变这种平衡，因此也就能改变溶解度的性能。

10.3.1 溶剂清洗概述溶剂清洗是一个将清洗剂直接在需要清洗表面喷淋、沉浸、刷洗的过程。溶

质溶解到溶剂中的能力

称为溶解度。污物和溶剂清洗剂通过它们分子结构的排列而相互作用。热度

和熵特别能加速溶解，并致使溶质更具有热力学稳定性。溶剂清洗剂的效力取决于溶剂和溶质结合

的能量，而这能量又基于驱散、偶极子运动（同一个分子内，部分正电荷和负电荷的相互排斥）和

与氢结合的性能。

IPC-CH-65B-C 2011年7月

120

Provided by IHS under license with IPC

Not for Resale, 11/27/2015 19:13:55 MST

No reproduction or networking permitted without license from IHS

--`,`,,,,`,`,,,`,,,`,`,`,`,,,```-`-`,,`,,`,`,,`---