IPC CH-65B CHINESE.pdf - 第195页

12.9 清洗设备 选 型 流 体管理 在 维 持一个 经 济 的清洗 过 程 是 关 键 。 独 特 的 模 块 控 制( 直 列 式 清洁设 备 ) 以 及工 艺 流 体 同 清洗化学 品 隔 离 (单一容 器 以 及 多种独 立 存 在的容 器 )的 分析是 必 不可 少 的。 流 体 输 出的关 键 在 于 穿透 以 及 急 速 打 破 与电路板 间距 较 小的组件 底 部的 焊剂 屏 障 。通 风管理 关 键 在 于 减少 在…

100%1 / 215
下材料的兼容性
金属
层压
–塑
合成
涂料
组件
件标、标
使历史是什么?
不得不发表对产品法是什么?
清洗支持等级声
有提全球支持?
产品有通ROHS标准或者兼容
产品是险品或者:对员工什么管控等级去最小化
产品性)
VOC等级监管机构监?
VOC等级满足公司/
的工作场所的气是什么?
•蒸发和损失
清洗变溶剂寿命
清洗的表面张力、性、密度是什么?
清洗监管制有容易
什么?
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IPC-65B-12-2-cn
12-2 影响组装线路板清洗效果因数
IPC-CH-65B-C 20117
180
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12.9 清洗设备体管理持一个的清洗制(清洁设
及工清洗化学(单一容多种独在的容)的分析是不可的。
出的关穿透与电路板间距小的组件部的焊剂。通风管理
减少在工区的化学使出的清洗气
量为小。液体长清洗
寿命的关体控制关正确的清洗槽浓在清洗制程允许的公以内
,清洗设体控制的设计会影清洗制程的有性。因素如高的清洗消耗
量、设出的汽、在清洗及程中的起泡损耗这些因素中的一个或者
因素失调导致出现不的清洗备最初充满清洁化学动时,制程问题
可能不会
慢慢出现。导致更高缺陷的为在元器
隙以及表面白色残留物和不可残留
选择清洗设备需考虑许多因素成本评估之外因素值得考虑
清洗和清洗清洁要求严格的组件?
设计以将清洗洗和(适用式以
分段式槽?
•加的设?
•从机器生产阶段响应
满足清洗生产量的要求?
•蒸汽能机器散掉?
评估
清洗溶剂水分离效率
收集的清洗后续
再利
清洗有一个
清洗罐每转多?
化学添加
备是否受器或者机控
印章、材料清洗兼容
机器组件
清洗困难组件的通过率是什么?
噪音等级
成本
•耗
排放积量
的能成本
用的空间?
的清洗/部件成本
能力
系统允许使可)
在工人安全的工程制及员工保护系统业的评估?
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12.9.1 化学清洗面一要,物理用。一来,使用的
量及机械能量,清洗效果越好
12.9.1.1 清洗剂清洗度是清洗性能的一个参,此清洗机械用。
12.9.1.2 清洗剂温度 清洗的提溶剂型污染物溶使焊剂变
更温快地焊剂高温
时可减少洗的取决清洁设、清洗、污
元器件。
12.9.1.3 清洗剂时间 清洗时元器件的隙高很强的关性。芯片μBGA芯片
LGA芯片QF芯片薄片电容及其组件类型组件与电路板表面的大小列而
减少。组件隙高3-5mils要求提清洗时穿透所有助焊剂残留。对密度组装
细间距元器件的组件,必须长时的清洗选择使用清洗设及清洗
考虑因素
12.9.1.4 为了改善清洗细间距元器效果,研究数据表明动、板表面的力、
力和清洗时改善制程清洗。清洗设的清洗部分是当重要的。研究数据发现表明在清洗
阶段未完消除助焊剂残留阶段无法去了在清洗中要求的
量。
过使用各
技术可实现清洗。为了3-5mil下的助焊剂残留,清
洗时及清洗度是。在回流焊过润湿助焊剂穿透小的组件成一个助焊
。为了助焊剂,清洁必须首残留物产生一个使清洗
动到组件的部。助焊剂残留物需长的了清洗的复杂性。
12.9.1.4.1
量通量(GPM表示。在清洁程中所
GPM基于进入净、设中的水管型号
量、收率。有充足应是非常重要的,容积有限的清洗
一个大量水或者化学与以满足
一个清洗程所量。允许
液体使用。一个能源消耗大容积的个清洗系统
类型将改量的限制。特定要求选择
是考虑点在通一个环系统,可少补
泄漏必须个容
积。
12.9.1.4.2 电路板设计的复杂性和在在组件和下小的,适用
电路板的力量所有污染的关。通板的部和部的各种喷和可调喷,可
现不力。和力量的大小由喷和板面距离的。
12.9.1.4.3 板⾯的在板面的或者冲量的。影板面的力的主要因素
有:
过水水管量。
的出力。
•喷量和类型(可以根据施的限制来或者减少力)
•流和板表面的距离距离,在板面的大)
过控 这些量, 或者减少板面的力。要的要在板的表面到适的平
力,使清洗污染,而不会破坏脆弱的部件。一个清洗系统可能
的在程中
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