3D AOI程序制作指.pdf - 第16页
服务热线: 400-1189 -123 www .aleader .hk E-mail:aoi@aleader .hk Ø 算法:Match 采用水平垂直 对齐模式 后可通过软 件对图片进 行处理 最终得到的效 果图可以 避免因小角 度旋转或者 污染等情况 导致的定位不 准 并且能得到更 好的检出 效果 主要用于ch ip物料定位使 用 可采用“2D 图像+水平垂 直对齐”或 “3D点云+ 水平垂直对 齐”

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Ø算法:Location
此算法使用横切平面搜索元件位置,主要用于定位,可检测起翘、缺件等。
图中黄线位置即为横切平面位置,一般放置在无干扰位置
下图为不同横切面高度的效果图
左图为正常切面高度效果,右图为较低横切面效果,有锡膏干扰导致效果面积变大

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Ø算法:Match
采用水平垂直对齐模式后可通过软件对图片进行处理
最终得到的效果图可以避免因小角度旋转或者污染等情况导致的定位不准
并且能得到更好的检出效果
主要用于chip物料定位使用
可采用“2D图像+水平垂直对齐”或“3D点云+水平垂直对齐”

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Ø算法:TOC
此算法主要为检测元件具有特征颜色的部分来检测元件的缺件、错件等有颜色差异的检测项
可选择按面积百分比计算或像素点计算