IPC CH-65B CHINESE.pdf - 第175页

们 从 冲 洗 水 中 分离 。 水溶 性 半水基 清洗 剂 (任何 非水溶 性的 半水基 清洗 剂 中的 水溶 性成 分 ) 需 要 更 先 进 的 机械或者 加 热 的 方 式将 它 们 分离 。 非水 溶 性 半水基 清洗 剂过 程的 理 论 计 算 表明, 当 大部 分 材料 是 在一个 闭 环 的 乳 化 液倾析器系统 倒 出 时, 半水基 清洗 剂 的 浓 度 还 是 相对 较 小的。 倒 出的 半水基 清洗 剂 可 以 用…

100%1 / 215
11.5.2.3 ⼲燥 干燥段制相对单。干燥机是种高热空干燥的一
个关点是在合适的引导干燥段刀将件和组件的表面出,而不发。
为了提效率要的任何机器干燥段尺寸与其持一
11.6 环境控制和注
11.6.1 半水基清洗排放有:
助焊剂和其污染半水基清洗
含有半水基清洗
半水基清洗汽。
污染的及在使程中的
发性有化合排放(和可能有的有害空气污染
流必须根的章程处理
政府机构已对运送废排放气中的排入或者系统,并
排入湖泊和海法规章。在国,清洁法案清洁水法资源保护
收法案RCRA等详细规定了用和制半水基清洗产品应任。
规定可能适用。用任何半水基清洗新清洗工时,细考虑这些
法规。用在实任何新的清洗工(包半水清洗)
联系所有合适的气、
半水基清洗为可生物降解物质,不会制公水处理POTWs有的
材料安全数据表(MSDS或者类的文件包含其产品具体信息。水法规异很大,
使者应POTW
和国标准定义泄漏量,有关局报告MSDS包含容及清
泄漏的合适方法
的有关信息。
11.6.2 ⽤的半⽔基清洗剂 取决所用清洗半水基清洗类型两种用有机半水基
清洗的来源。是半水基清洗情况下,半水基清洗废酸
的新清洗半水基清洗中的助焊剂残留物持在一个平值上。果半水基
半水基清洗的污
可能会使整半水性清洗
定期。第二,到目,所半水性清洗剂最可能的来源倾析器中的有
或者是水收过程中的缩物确切处理方取决燃点于半水基清洗中的
害物质数量和含量。(在国,这些限制RCRA法规规定;在其,一由危物处
法律做规定助焊剂残留物可能包含量的和其重金属物质果使用了
助焊剂
此。I型半水基清洗剂是中性pH值,们不会通化学应去除重金属。一半水基清洗
目来半水性清洗便于正确或者收再利用。这种可能有
限制,或者原产以外的国可能这些
溶于水半水基清洗大量溶剂倾析器或者
中的分离出来
不可的。洗槽内的材料的处理方与不溶于水的材料的处理方的。
所有清消除组件中的锡珠飞溅和其。清洗设备应有适
以消除清洗中的这些固金属
11.6.3 冲洗⽔ 半水基清洗程中势之是冲处理方法两种类型
半水基清洗水溶性和非水溶
性。水溶性清洗剂带来一个挑战,无法单的机械分离方法
IPC-CH-65B-C 20117
160
Copyright Association Connecting Electronics Industries
Provided by IHS under license with IPC
Not for Resale, 11/27/2015 19:13:55 MST
No reproduction or networking permitted without license from IHS
--`,`,,,,`,`,,,`,,,`,`,`,`,,,```-`-`,,`,,`,`,,`---
分离水溶半水基清洗(任何非水溶性的半水基清洗中的水溶性成
机械或者式将分离
非水半水基清洗剂过程的表明,大部材料在一个液倾析器系统
时,半水基清洗相对小的。出的半水基清洗用上一节所述的方法处理
出的
程中法规水处理。所有半水
清洗或者溶中时,生物降解的,不制通在公水处理发现的
。用,一一的排放标准,标准对金属和各领域的其有不
的限制。
11.6.3.1 ⾮⽔溶性(I型)半⽔基清洗系统中的冲洗⽔ 子,在国,附带倾析器
后续的污施系统排入水处理排入
水处理点应水处理管理局或者国运机构核实。相水溶
水基产品监管机构更普遍地非水溶半水基材料材料,通
FOG)区。关问题
更多信息环境控制的部9章节)
11.6.3.2 ⽔溶性(II型)半⽔基清洗系统中的冲洗⽔ 水溶半水基清洗系统中的含有更多
的有机物。有几种方法处理这些放式排放或者水处理
限制或者,可用将废中。当废流被便残留下的大部
分或者所有的水溶性清洗和污染
选择处理。此,开放式环过程可能会
限制排放发性有化合VOCs)和有污染HAPs
11.6.3.2.1 排放⾄下的冲洗⽔ 排放是最简单的处理过程。然而,需考虑环境
监管方面的问题。各 确定它们的下排放POTW或者未连POTW
的下系统或者
制(UIC。在国,环境保护规定
源的液体或者水应至地UICUIC的工施应国的UIC局联系
定是否符合要求。在其的用法规遵循
这些系统出的,大部是带水溶性清洗及清部件产生量污染
水溶性化学成分是生物降解的,pH值为中性或者
性。通常流可证允许水溶性清洗
流排中清洗的含量可废酸含量行估并可验证其含量。
允许排放到下或者限制允许排放量。在这些必须考虑它处理方
11.6.3.2.2 排放POTW的冲洗⽔ 水溶半水基清洗系统中的不可
排放POTW。在许多水溶
物质监管但允许在支付小后排POTW
11.6.3.2.3 的物体排 当蒸于集中污时,用可能会定期将蒸
或者他们连续操作定期将蒸物体优点是清洗
更多中,VOC排放环境中。其点是置更多
。此
速度,并使器使的清洗速度点是使化学
的清洗导致更多使的清洗过带液留阶段
水过程中使用了碳/离耗尽速度阶段
使用的清洗必须
11.6.3.2.4 定状态下的,可在不将蒸下运
长一。来化学或者最初冲洗区的以连续浓
定状态下的优点是它最大限地减少量,并使和清洗
的时长。其点是排放环境中的
VOC较高。此项过程会加蒸速度
20117 IPC-CH-65B-C
161
Copyright Association Connecting Electronics Industries
Provided by IHS under license with IPC
Not for Resale, 11/27/2015 19:13:55 MST
No reproduction or networking permitted without license from IHS
--`,`,,,,`,`,,,`,,,`,`,`,`,,,```-`-`,,`,,`,`,,`---
使速度及不使,化学量会
处是化学分使的清洗降低降低阶段清洗使用量。
收过程中使碳/离使长的时
们不
使的清洗
11.6.4 回收 几种方法中的半水基清洗便用。
点是减少消耗消除水处理水质。用检查已系统确保系统
为他们工
11.6.4.1 碳/离⼦交换床 方法使碳/离使的清洗
方法了化学
阶段冲,通过碳输送并通清洗
系统以回收利用不溶于水半水中的,部分分中的半水基
,可通过碳前的分离器分离开来。
液体中的有机物所有子。
于活吸附是分子大小,可能
有一列的有不碳质。不正确吸附可能会导致吸湿非离物质产生
物质可能对组件的电气产生的影
程不将废 入废或者碳/离的成本经常被耗尽。长
来,本方法是最昂贵选择考虑为一个
或者最阶段方法
11.6.4.2 渗透 渗透RO系统的工作方于碳/离的工作方它初成本
较高,不降低成本。它带膜分离清洗和污染膜基本上都是极精细
,能分离分子大小的材料,污染的溶液力下一个
,然过膜排除膜是
设计的,可小的水分子通可限制子和大子通
比如在一半水基清洗发现的子和大子。污染中在,在渗透相对减少
渗透于类型I或者类型II清洗为和有机溶剂清洗剂分子相水分是非
小的。 I清洗ROI缩物RO缩物(不能穿透)可以被送回
倾析器
,用于使的清洗分离再利用。用此复杂的设计的,过去十
里只设计。
11.6.4.2.1 渗透操作细节 细选达到99上的分离效果选择是基于兼容
性和与特定清洗分离效果。适合半水基清洗可能不兼容清洗材料。换受
可能代价会昂贵半水基材料有关半水基清洗剂使程的
溶于水的材料(I退回到清洗机倾析器。一倾析器中,有机溶剂
分离渗透系统倾析器和容然会达到的平。通情况下,
系统中的度是2或者更低。一机器设计在吸附/离换柱来清
第一个出来的,并
一个减少排入的污
于膜的兼容性问题渗透很少使用在II型半水基中。在水溶性(II)的工中,这些
材料有下三:可器或者中。可参9章有关这些做法
环保法规注意事项
11.6.5 挥发性有机化合物(VOCs 于水溶性和非水溶类半水基清洗剂是碳材料,
发性有化合VOC许多家极为关注挥发性有化合物或者类材料,定法规
限制发性有化合排放
IPC-CH-65B-C 20117
162
Copyright Association Connecting Electronics Industries
Provided by IHS under license with IPC
Not for Resale, 11/27/2015 19:13:55 MST
No reproduction or networking permitted without license from IHS
--`,`,,,,`,`,,,`,,,`,`,`,`,,,```-`-`,,`,,`,`,,`---