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一个 典 型 的周 期 由 一 些 系统 化的 步骤 组成。在一 般情况 下,四、五清洗 篮 可 以 在 同 一个时 间处理 : 第一 次 是 在装 载站 ,而第二个 是 在洗 涤阶段 。可 选 的第三个清洗 篮 ,可 以 保 持在 原 来位 置 ,而第四 清洗 篮 是干燥 ,第五清洗 篮 是 在装 卸 站 。线性 结 构 的 高流 量的 机器使 得 筐 的 自 动化运动 更 容易。 装 载站 需 要 防静 电,可 使 用各 种 材料 …

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单个和腔膛式量清洗的主要点是灵敏。周是基于干
等级求,可以从1545。实很难使去去水分或者水分子,在一个
中,干燥过程一间最长的部。部件何相对一个装在子上,有
件能放入腔膛内都会影清洗的时效果清洗系统
动装部件
一个管使的装子可小化
12.7.17.1 标准的单个腔膛量清洗的周包含、洗洗和干燥阶段
涤阶段常被运用为了水溶性工或者助焊剂。清洗被充入进清洗的腔膛
接着再流经板子。在水溶助焊在的情况下,相大部助焊剂在此阶段
成。在松
基助焊剂存在的情况下,涤阶段 可能助焊剂使助焊剂去
涤阶段有一个益处部件的助焊剂去的要求。一
清洗系统涤阶段选择添加的表面剂或者化学试剂。在一个程化的
回流涤溶剂清洗腔膛被排放出。
涤阶段
主要用于去板子上的助焊剂污。果需要,可和程用量的清
剂再到板子上。大部分系统带有可溶剂并能使溶剂一来可
仅单个的程,可能足以除一个特定的电路板组装上的污染去离用在一个开
环或者环过程,清洗程。然而,多次由组件上使用的助焊剂类型,为了有效去
,化学添加剂是要的。
考虑环境单个使用化学溶剂使
环境都可兼考虑
情况下,具体助焊剂选择了要使特定的清洗介质一个有/水溶助焊
剂或者焊膏被中,选择全去助焊剂残留物特定选择清洗介质谨慎
为有因素可能会影清洗介质选择
在本文中前所讨论的。助焊剂经常
清洗的一个主要目标,我们必须考虑它过程中的污染,包电路板和组件制造残留物
非助焊剂相关的残留物非极残留可能使用化学添加。清洗剂特定的化学成
在清洗程中清洗个周的化学溶剂损失及在对化学溶剂处理
所有这些因素助于成本、效益环境的化学制程。
多次洗、
期或者闭循环冲洗可能用。环系统断循洗通DI
的一部。在这两种环系统阻率等级监测的,可用于确定冲
成的时。在程()的情况下,一系统允许最初 洗时量的
溶剂
12.7.17.2 ⼲燥 在单腔膛或者系统
中,干燥步骤是最长的工艺步骤干燥
腔膛发到气中和接着去干燥主要是控腔膛温通的能。干燥期
热是批量清洗设需元素量清洗或者两种加技术。风机去
除腔内湿水分和的气而使干燥、能吸附水分气。
12.7.18 原理是腔膛
清洁/冲洗和。装沿机器水
向滑动,或者自动,升降部件。可操作的持使批
处理系统性。这些措施能量,量的水溶剂求,运成本,在
的能力,大限清洗各电子组装产品的有性。
有印制电路板放置
正确导,在装得到效率,并的峰值
率需求。解释,峰值功率是在清洗剂冲传输组件部时求。效果以从
求的保护或者电路板,并可能导致清洗
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一个的周系统化的步骤组成。在一般情况下,四、五清洗一个时间处理
第一在装载站,而第二个在洗涤阶段。可的第三个清洗,可持在来位,而第四
清洗是干燥,第五清洗在装。线性高流量的机器使动化运动容易。
载站防静电,可使用各材料,在其放置一个,准备接收已焊接组件。一
,清洗滑向涤/冲
时,清洗周或者自动。清洗
上的喷射实的速度喷射而出。在清洗时,清洁水溶剂以流入底
洗的周包含使去离水冲洗板子,并使用的喷射
当这,清洗以滑动到允许清洗平台上,果需要的
干燥机被解放
排放滑向机器自动。干燥机
个气转缓。在干燥的第一部机器
。在刀后板会热空干燥。然机器开,清洗平台上。是类
程,并允许业员清
清洗使用。
12.7.19 在线空⽓喷淋 喷淋机械搅拌是种常方法这种水基清洗
清洗的部件上。的设计制必须结性。证明了满足传
件,高流低压力与低流高压力都可得相要来
设计及喷射
为了改善清洁
能,板最初涤段使线路板的助焊剂
化的。在洗喷射出的液体均匀。电路板的尺寸密度元器类型
技术的使用,组合技术能多种等级量、电路板表面的力。
密度组装电路板,元器影部要求一个长的洗间使得清洗的
穿透隐
满足长的从较低装件和部清所有助焊剂残留要,喷淋研究
年。为了实现求的清洁挑战,力和常常被穿透
另外长的清洗时间/速度用。时提高喷
穿透层以及小陶瓷元器件的可能性。这些响需要在电路板的清洁设计阶段
量化并讨论
在线清洗一个高流量清洗程。清洗设是模或者非模化设计。化设计允许
大的性和可性。所有的部件的清洗程。中的电路板与
第一中的电路板得到的清洗程。清洁系统负载敏系统
在线制程主要包4~5个主要步骤,并着助焊剂类型化。所要的输送带速度
了洗洗及干燥模的时。一输送带速度确定了,必须合适的测试以建
操作输送带速度力、积、干燥接着配置将取决
助焊剂或者焊类型
系统中一
或者水离应阶段为清洗和水处理成本能
用。时,的洗涤水流入阶段起泡沫以不适用。
处理水溶焊剂或者时的阻焊膜清洗可以消除大部的污染,通一个步骤
清洗出并在组件部的助焊剂。组件部与电路板表面距离
大的能量Z直轴下的污染可能定于电路板的复杂助焊剂与清
的兼容性。线及清洁要求这些阶段一个或者个发。在
合成时,通常添加化学试剂去溶助焊剂,化学试剂射将助于过程的
复性。
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组件部与电路板表面距离越强大的能量。这种情况可能发或者
取决线及清洁要求。此阶段的清洗取决电路板的复杂
化学离阶段擦拭零部件上的清洗收过的清洗到清洗中并在进入阶段
消除大部的清洗
阶段是去元器件表面及部的清洗助焊剂残留子污染
阶段电路板一个化的去离水冲洗。电路板经历水冲洗。
电路板上所有子污染果干燥步骤,此阶段确保
产品
干燥阶段电路板分离出来。通过热汽来干燥是比较合适的。
线干燥度要求可以进或者多次
干燥
系统模式进可用的。洗洗、干燥上要点具有相,不
生产能力。与线性式连步骤处理部件及传送们。要一
个上料/下料的员工。此系统优点减少
据自动化要求、需考虑步骤连续直链清洗系统
•预
为了不的设处理而设计。
于水溶性制程,消除表面时的污水溶离物
、合成助焊剂的清洁程,涤作用在提电路板润湿电路板组装
便清洗浸泡并开程。
一个水基清洗时,大液体化学清洗
传送清洗到电路板组装件,装件及组件部与电路板表面距离小的组件
洗力大清洁
力提穿透间距消除大部分助焊剂残留化合
制清洗
化学试剂
刀被用来件表面消除清洗
收过的清洗到清洗贮存
使滑流消除大部的清洗剂防洗污染
水或者
污染的
洗。
元器件表面或者消除所有的清洗化学
残留
洗。
子清洁消除中的痕迹污染
–取子清洁部
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