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Betriebsanleitung SIPLACE Wafer System (SWS) 6 Optionen Ausgabe 02/2018 6.3 SWS Wafer Stretcher (Expander) 113 6.3 SWS W afer Stretcher (Exp ander) 6 Das SIPLACE W afer System (SWS) kann mit der Option SWS W a fer S tret…

6 Optionen Betriebsanleitung SIPLACE Wafer System (SWS)
6.2 Optionale Komponenten Ausgabe 02/2018
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Abb. 6.2 - 4 Barcodescanner - Installationsbeispiel am Magazin-Lift
(1) Barcodescanner
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Betriebsanleitung SIPLACE Wafer System (SWS) 6 Optionen
Ausgabe 02/2018 6.3 SWS Wafer Stretcher (Expander)
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6.3 SWS Wafer Stretcher (Expander)
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Das SIPLACE Wafer System (SWS) kann mit der Option SWS Wafer Stretcher (Expander) für
zwei verschiedenen Waferaufnahmen (8" oder 12") konfiguriert werden.
SWS Wafer Stretcher (Expander) besteht aus folgenden Hauptbaugruppen.
– Stretcher
Der Stretcher dehnt die Waferfolie mit dem Ziel, die Abstände der sich darauf befindlichen
Dies zu vergrößern. 6
–Heater
Der Heater besteht aus einem Heizelement und aus einem Gebläse. Das Gebläse bläst er-
hitzte Luft auf die Waferfolie. Dadurch wird der Durchhang der Waferfolie so weit reduziert
(kleiner 9 mm), dass der Wafer ins Magazin zurück befördert werden kann. 6
HINWEIS
Der SWS Wafer Stretcher (Expander) kann im Feld nicht nachgerüstet werden.

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6.3 SWS Wafer Stretcher (Expander) Ausgabe 02/2018
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Abb. 6.3 - 1 Waferaufnahme mit SIPLACE SWS Wafer Stretcher
(1) Stretcher-Rahmen mit Waferaufnahme und Niederhalteblech
(2) Gebläse des Heater
6.3.1 Sicherheitshinweise
6
2
1
1
VORSICHT
Vebrennungsgefahr durch hohe Temperaturen!
Die Heizung kann Temperaturen bis zu 60°C erreichen.
Fassen Sie nicht in den Bereich des Gebläses.
Vorsicht beim Berühren der Waferaufnahme.