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Betriebsanleitung SIPLACE Wafer System (SWS) 6 Optionen Ausgabe 02/2018 6.3 SWS Wafer Stretcher (Expander) 113 6.3 SWS W afer Stretcher (Exp ander) 6 Das SIPLACE W afer System (SWS) kann mit der Option SWS W a fer S tret…

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6 Optionen Betriebsanleitung SIPLACE Wafer System (SWS)
6.2 Optionale Komponenten Ausgabe 02/2018
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Abb. 6.2 - 4 Barcodescanner - Installationsbeispiel am Magazin-Lift
(1) Barcodescanner
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Betriebsanleitung SIPLACE Wafer System (SWS) 6 Optionen
Ausgabe 02/2018 6.3 SWS Wafer Stretcher (Expander)
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6.3 SWS Wafer Stretcher (Expander)
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Das SIPLACE Wafer System (SWS) kann mit der Option SWS Wafer Stretcher (Expander) für
zwei verschiedenen Waferaufnahmen (8" oder 12") konfiguriert werden.
SWS Wafer Stretcher (Expander) besteht aus folgenden Hauptbaugruppen.
Stretcher
Der Stretcher dehnt die Waferfolie mit dem Ziel, die Abstände der sich darauf befindlichen
Dies zu vergrößern. 6
–Heater
Der Heater besteht aus einem Heizelement und aus einem Gebläse. Das Gebläse bläst er-
hitzte Luft auf die Waferfolie. Dadurch wird der Durchhang der Waferfolie so weit reduziert
(kleiner 9 mm), dass der Wafer ins Magazin zurück befördert werden kann. 6
HINWEIS
Der SWS Wafer Stretcher (Expander) kann im Feld nicht nachgerüstet werden.
6 Optionen Betriebsanleitung SIPLACE Wafer System (SWS)
6.3 SWS Wafer Stretcher (Expander) Ausgabe 02/2018
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Abb. 6.3 - 1 Waferaufnahme mit SIPLACE SWS Wafer Stretcher
(1) Stretcher-Rahmen mit Waferaufnahme und Niederhalteblech
(2) Gebläse des Heater
6.3.1 Sicherheitshinweise
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2
1
1
VORSICHT
Vebrennungsgefahr durch hohe Temperaturen!
Die Heizung kann Temperaturen bis zu 60°C erreichen.
Fassen Sie nicht in den Bereich des Gebläses.
Vorsicht beim Berühren der Waferaufnahme.