SAKI AOI入門指南.pdf - 第30页
A. 模式對比處理過程 在檢測時將被檢圖像與已知主圖像疊合 , 在已設置的搜尋範圍內移動主圖像 移動主圖像直到主圖像與被檢圖像之間的灰度差最 小 灰度差很小 兩幅圖像很相似 ( “ Sample ” 值很大 ) 灰度差很大 兩幅圖像不相似 ( “ Sample ” 值很小 ) B. 規範化處理過程 30 移動主圖像直到主圖像與被檢圖像之間的灰度差最 小 上圖表明了規範化處理過程對模式對比 的影響 , 有時同樣的元件因為 PCB 亮度的不…
算法算法原理:
此兩种算法可在檢測窗口內搜尋與已知圖像相似的圖像及其相似程
度.當兩幅圖像完全一樣時,則”Sample
”
為0.
<<<<Image MatchingImage Matching>>/<<>>/<<
Image Matching EXImage Matching EX
A
A
兩算法之區別: Image Matching EX比
Image Matching
A
A
參數設置:
此兩种算法可在檢測窗口內搜尋與已知圖像相似的圖像及其相似程
”
為100,相反如果完全不同,則”Sample”
Image Matching EXImage Matching EX
>>>>
Ｋ
Image Matching
檢測速度要快.
29
Ｋ
A.模式對比處理過程
在檢測時將被檢圖像與已知主圖像疊合,
在已設置的搜尋範圍內移動主圖像
移動主圖像直到主圖像與被檢圖像之間的灰度差最小
灰度差很小
兩幅圖像很相似(“Sample”值很大)
灰度差很大
兩幅圖像不相似(“Sample”值很小)
B.規範化處理過程
30
移動主圖像直到主圖像與被檢圖像之間的灰度差最小
上圖表明了規範化處理過程對模式對比
的影響,有時同樣的元件因為PCB亮度的不
同而亮度不同,這時就需要先進行規範化處
理過程.
規範化處理過程后,元件的亮度範圍
就被擴充到0-255的全亮度範圍.
應用實例:
此算法在IC中的應用可測出反向、錯料、漏料
等不良
OK
NG
NG
設置
檢測
窗口
的尋
找範
圍
等不良
31
設置此
參數可
以改變
Sample
值的計
算方式
NG
OK Range的Lower不宜低于65
增加或刪除當前圖片