ALeaderAOI 625 使用手册.pdf - 第123页

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对于此类 “ 错件 ” 误报，采用 “ 内派生 ” 操作，单击 ① 中的【派生】操作，增加待用检测项标准。当 “ 错

件 ” 误报时返回值与判定范围的下限差异不大时，降低判定下限，一般为 5 个刻度值为单位。

当采用 “ OCV ” 算法发生 “ 错件 ” 误报时，如下：

上图为 “ 错件 ” 误报窗体，标准丝印为 “ 472 ” ，待测丝印为 “ 268 ” ，丝印发生改变，选择增加丝印标准

，

进行 “ 内派生 ” 操作，如 ① 区域中的【派生】，消除此类误报。或者 “ OCV ” 算法的返回值为 13.6 ，判定范

围为（ 0 ， 12 ）时，采取增大判定上限，将判定范围调节为（ 0 ， 15 ），则消除该误报。

当采用 “ Match ” 算法发生 “ 错件 ” 误报时，如下：

①

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上图为采用 “ Match ” 算法的 “ 错件 ” 误报调试窗体，选用的操作为 ① 中的【派生】，增加一个待用检测项。

当采用 “ OCR ” 算法发生 “ 错件 ” 误报时，可通过改变 ROI 范围来消除误报。

3.3.6

缺件

缺件，是电子元器件的一个重要检测项，是元器件三大必须检测项之一。缺件采用的算法有 “ TOC ”

算法、 “ OCV ” 算法、 “ Match ” 算法、 “ OCR ” 算法、 “ Histogram ” 算法和 “ Missing ” 算法。其中 “ TOC ”

算法、 “ OCV ” 算法、 “ Match ” 算法、 “ OCR ” 算法与 “ 错件 ” 中的 “ TOC ” 算法、 “ OCV 算法 ” 、 “ Match

”

算法、 “ OCR ” 算法一致。 “ Histogram ” 算法是通过分析区域的平均亮度来检测的，而 “ Missing ” 算法是通

过检测电容的两个电极要检测的，该 2 种算法都是针对于电容的缺件检测。

当 “ 缺件 ” 采用 “ Histogram ” 算法时，其注册窗体如下：

上图为 “ Histogram ” 算法下的 “ 缺件 ” 注册窗体，说明如下：

1 ROI 区域：缺件框大小要偏离电容本体 2 个像素左右，宽度大小为整个焊盘的三分之一到三分之二之间

，

高度大小要与电容本体的高度大小一致。

2 检测算法区域：【检测算法】选择 “ Histogram ” 算法，其他参数见 ② 区域。

3 缺件的判定区域：默认判定范围为（ 0 ， 120 ）。

4 Histogram 参数：【检测模式】选择 “ Min ” ，或者为 “ Max ” ；色彩模式为【红】 + 【绿】 + 【平均】；【比

①

②

③

④

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率】为 100% 。

提示：缺件类 “ Histogram

Histogram

Histogram ” 算法下【比率】必需为 100%

100%

100% 。

当 “ 缺件 ” 采用 “ Missing ” 算法时，其注册窗体如下：

上图为 “ Missing ” 算法下的缺件注册窗体，说明如下：

1 ROI 框：缺件框的大小要比本体大小小 2 个像素左右。该框的大小一般是由 ④ 区域中的【自动重置大小

】

获取。

2 检测算法区域：【检测算法】选择为 “ Missing ” 算法。其他参数见 ② 区域中示意。

3 缺件的判定区域：判定范围为（ 0 ， 12 ）。

4 Missing 参数：色彩特征选择为【红】 + 【绿】 + 【最大】；电极的亮度比较亮，【差异阈值分割电极

】

为非选择状态，否则为选择状态。其他参数见 ④ 区域。需单击【自动重置大小】来设置缺件框的大小。

当 “ Histogram ” 算法下发生 “ 缺件 ” 时，如下：

①

②

③

④

①