KE2000R动作说明书.pdf - 第74页

R e v 0 . 0 0 动作说明书 实效元件对角尺寸 88.00mm 以下的视 视 识 识 补弦元件, XY 移 动可能的高度 (SZ)控制 识 识 视 子。 实效元 件对角尺寸超过 88.00mm 的视 视 识 识 元件, 在大型元件转动高度控制识 识 控制, 但是大型元件转动, XY 轴移动可能的高度低 传 ,在 XY 可能移动的高度,控制识 识 视 子。 ( 元件高度 (T)+ 元件深度 (D) 在 4.00mm 以下 传 )…

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3-11-6 大型视元件高度控制
不与激光感器相干扰的元件各格度成为转动高度。
KE2020/40 FMLA 感器干扰,KE2060 MNLA 感器元件也相干扰
通常,元件旋转高度与 XY 移动高度是相同高度
KE2060 的实效元件对角尺寸超过 88.00mm 的视元件,以下的大型元件转动高度(RZ)有可能限
制高度
XY 移动高度作为 SZ 的话,激光感器下面设计上为 SZ+4.00mm
XY 移动高度 SZ 是元件高度规格缉办的最大翘取量(2.00mm)和退避高度(1.00mm)的合计高度
把元件高度作为 T,把元件深度作为 D 之后,大型元件旋转高度 RZ 用以下的式子表示
RZ = SZ + 4.00mm - D - T(RZ 为元件最下面的高度)
T
D
TD
3−11−4 各部尺寸要求
SZ+4.00mm
レーサーセンサ最
回転高さ
RZ
SZ
XY移動可能高さ
VCS認識高さ
SZ-4.00mm
旋转高度 XY可以移动高度 VCS识 高度
激光感器最下
传3-1−5 各高度概要
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实效元件对角尺寸 88.00mm 以下的视补弦元件,XY 动可能的高度(SZ)控制子。实效元
件对角尺寸超过 88.00mm 的视元件,在大型元件转动高度控制识控制,但是大型元件转动,XY
轴移动可能的高度低,在 XY 可能移动的高度,控制识子。 (元件高度(T)+元件深度(D) 4.00mm
以下)
装角度和识子相同的元件,在吸附元件可能转动高度(XY 可能移动高度),被子控制
子之后,识装。在装点,XY 修正动作后,在可能转动高度(XY 可能移动高度),仅被θ修正,然
后移动到装高度
一方面,装角度和识子不同的元件(纵长识,吸附元件,在可能吸附高度(XY 可恩g移动高
)被纵长姿势控制识子之后被识
装点,XY 修正动作后,在可能转动高度(XY 可能移动高
),被修正,然后移动到装高度
子,通过元件外形尺寸、VCS 偏差(XY)装角度、照明参数等,片机自动生成,因此
拥护不能指定
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基板上面高さ
吸着高さ
吸着
搭載高さ
搭載
回転高さ
吸着
XY移動可能高さ
吸着
VCS認識高さ
認識
XY移動可能高さ
搭載
回転高さ
搭載
画像焦点高さ
部品移動可能高さ
センサ下面高さ
吸附 吸附 吸附
吸附高度
转动高度
XY可以移动高度 VCS 高度
XY可能移动高度 转动高度 装高度
元件可能移动高度
基板上面高度
感器下面高
传像焦点高度
3−11−6 大型元件的吸附、识装面的高度控制
吸着高さ
吸着
回転高さ
吸着
XY移動可能高さ
吸着
VCS認識高さ
認識
XY移動可能高さ
搭載
回転高さ
搭載
搭載高さ
搭載
基板上面高さ
センサ下面高さ
部品移動可能高さ
画像焦点高さ
吸附
吸附 吸附
元件可能移动高度
吸附高度 转动高度 XY可能移动高度 VCS识 高度 XY可 转动高度 装高度
感器下面高度
基板上面高度
3−11−7 小型元件的吸附、识装面的高度控制
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