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5. Job 的设定和编辑 INS-NXTMWU-4.2S 126 多功能晶圆单元使用说明书 邻近参考晶片参照失败时 运用了邻近参考晶片参照功能的 时候，如果处在以下的状态时，机 器就会中断生产，并且 显示元件补充向导。 a. 邻近参考晶片的影像处理失败 b. 不参照邻近参考晶片，直接超出了 Process Times 中所设定的间隔 备注 ) 如果 Shape Data 的 [Do Stop when Over Process Tim…

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INS-NXTMWU-4.2S 5. Job 的设定和编辑
多功能晶圆单元使用说明书 125
5.8.2 补充信息
关于不同设定时的 MWU 动作
根据 [Shape Process] 的设定，MWU 的动作如下变化。
将参考晶片指定方法 (Ref. Die Pos Type) 设定为 [WaferMap] 以外的时候
将参考晶片指定方法 (Ref. Die Pos Type) 设定为 [WaferMap] 的时候
Ref. Die
Check
Mode
Process
Times
Do Stop when
Over Pro
-
cess Times
动作
-
0-
不参照邻近参考晶片。
不进行定期影像处理。
0以外
No
按照 Process Times 中所设定的间隔，进行定期影像处
理。
即使超出 Process Times 中所设定的间隔而找到吸取对象
晶片时，也继续生产。
Yes
按照 Process Times 中所设定的间隔，进行定期影像处
理。
超出 Process Times 中所设定的间隔而找到吸取对象晶片
时，中断生产，进行吸取开始位置确认。
Ref. Die
Check
Mode
Process
Times
Do Stop when
Over Pro
-
cess Times
动作
No
Check
0-
不参照邻近参考晶片。
不进行定期影像处理。
0以外
No
按照 Process Times 中所设定的间隔，进行定期影像处
理。
即使超出 Process Times 中所设定的间隔而找到吸取对象
晶片时，也继续生产。
Yes
按照 Process Times 中所设定的间隔，进行定期影像处
理。
超出 Process Times 中所设定的间隔而找到吸取对象晶片
时，中断生产，进行吸取开始位置确认。
Process
Times
0-
不参照邻近参考晶片。
不进行定期影像处理。
0以外 -
按照 Process Times 中所设定的间隔，进行定期影像处
理。
超出 Process Times 中所设定的间隔而找到吸取对象晶片
时，参照所设定的范围内的邻近参考晶片。
Ref.
Pitch
0-
不进行定期影像处理。
超出参考晶片间隔而找到吸取对象晶片时，参照参考晶片
间隔的范围内的邻近参考晶片。
0以外 -
按照 Process Times 中所设定的间隔，进行定期影像处
理。
即使超出 Process Times 中所设定的间隔而找到吸取对象
晶片时，也继续生产。（所设定的间隔小于参考晶片间隔
的情况）
超出参考晶片间隔而找到吸取对象晶片时，参照参考晶片
间隔的范围内的邻近参考晶片。
5. Job 的设定和编辑 INS-NXTMWU-4.2S
126 多功能晶圆单元使用说明书
邻近参考晶片参照失败时
运用了邻近参考晶片参照功能的时候，如果处在以下的状态时，机器就会中断生产，并且
显示元件补充向导。
a. 邻近参考晶片的影像处理失败
b. 不参照邻近参考晶片，直接超出了
Process Times 中所设定的间隔
备注 ) 如果 Shape Data 的 [Do Stop when Over Process Times] 的项目被设定为 [No]，则
不参照参考晶片，机器继续生产。
请进行以下的操作，重新开始运转。
1. 在按下 OK 按钮之后，请打开门，完成元件补充。
2. 请按下 SUPPLY CPLT 按钮。
3. 吸取开始点指定画面被显示。请一边看着实时影像，调整到开始吸取的晶片处在中央，
按下 NEXT 按钮。
备注 )关于吸取开始点指定的操作，请参照 "6.5.3 指定吸取开始点 "。
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01NST-2086
INS-NXTMWU-4.2S 5. Job 的设定和编辑
多功能晶圆单元使用说明书 127
故障排除
请根据状况，进行有效的对策。
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