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15 Kalibrierung 15.4 Kalibrierung des kompletten Wafer-Handling 410 Serviceanleitung SIPLACE Wafer System (SWS) 11/2018 Abb.590: HINWEIS Stellen Sie vor allem für große Wafer (12") sicher, dass der Wafer-Rahmen (2)…

15 Kalibrierung
15.4 Kalibrierung des kompletten Wafer-Handling
Serviceanleitung SIPLACE Wafer System (SWS) 11/2018 409
Abb.588:
► Nun kann der Wafertisch manuell eingestellt werden, bis er mit dem Wafer-Magazin ausge-
richtet ist. Beide Seiten des Wafer-Rahmens sollten dieselbe Spaltbreite zur Schiene des Wa-
fertisches haben. Für die Feineinstellung kann der Wafertisch durch Drehen der Spindel oder
des Motors der entsprechenden Achse verschoben werden.
Abb.589:
► Wählen Sie Save in der Zeile Wafer change position, nachdem Sie die Einstellung abge-
schlossen haben.

15 Kalibrierung
15.4 Kalibrierung des kompletten Wafer-Handling
410 Serviceanleitung SIPLACE Wafer System (SWS) 11/2018
Abb.590:
HINWEIS
Stellen Sie vor allem für große Wafer (12") sicher, dass der Wafer-Rahmen (2) rechtwinklig
im Wafer-Magazin ausgerichtet ist.
Andernfalls berühren die Kanten des Wafer-Rahmens (2) diagonal die Kanten der Wafer-
Schienen (1) und der Wafer kann nicht heraus gefahren werden.
Wafer-Rahmen (2) und Wafer-Schiene (1) sollten parallel sein!
Ausrichtung der Position des Wafer-Heater (optional nur mit installiertem Stretcher)
KEINE GEFAHR GEFÄHRLICHER VERLETZUNGEN
► Setup-Modus ist nicht aktiviert!
Maschinenhauben sind geschlossen!
Abb.591:
► Wählen Sie Go to Position, um den Wafertisch an die geschätzte Position des Wafer-Hea-
ters zu verfahren.
► Aktivieren Sie den Not-Aus, indem Sie die Maschinenverkleidungen der CA-Maschine öffnen!
ð Alle Achsen des SWS sind stromlos.

15 Kalibrierung
15.4 Kalibrierung des kompletten Wafer-Handling
Serviceanleitung SIPLACE Wafer System (SWS) 11/2018 411
Abb.592:
► Verfahren Sie den Wafertisch manuell, bis dieser (2) über dem Wafer-Heater zentriert ist (1).
Unser Beispiel dient nur zu Demonstrationszwecken. Normalerweise ist bei einem installierten
Wafer-Heater anstelle der Schutzabdeckung (1) eine Stretch-Einheit am Wafertisch montiert.
Abb.593:
► Wählen Sie Save.